[发明专利]微波处理装置

权利要求书

1.一种微波处理装置，其具有：

加热室，其收纳被加热物；

振荡部，其输出加热频率的源信号；

功率放大部，其使用了对所述振荡部的输出进行功率放大的半导体元件；

供电部，其将所述功率放大部的输出提供给所述加热室；

功率检测部，其检测从所述功率放大部提供给所述供电部的入射功率和从所述供电部反射到所述功率放大部的反射功率；以及

控制部，其控制所述振荡部的振荡频率和所述功率放大部，

所述供电部至少配置于构成所述加热室的壁面，

所述控制部在加热动作开始前使所述功率放大部进行低输出动作，在规定的频率范围内使所述振荡部的振荡频率发生变化，检测由所述功率检测部检测到的反射功率，通过使用所述检测出的反射功率的极小点频率的上位的数个点，决定所述振荡部的多个加热频率，针对所述多个加热频率，在规定的单位时间内进行频率跳变加热。

2.根据权利要求1所述的微波处理装置，其中，

所述控制部针对根据从所述功率放大部提供给所述供电部的入射功率和从所述供电部反射到所述功率放大部的反射功率而计算出的入射反射功率比，设定规定的阈值，从所述阈值以下的范围中选择所述反射功率即所述入射反射功率比小的上位的数个点，作为在频率跳变加热中使用的加热频率。

3.根据权利要求1所述的微波处理装置，其中，

所述控制部利用基于多个加热频率各自的检测功率信息的时间系数，来决定频率跳变的每个周期中各加热频率的加热时间。

4.根据权利要求3所述的微波处理装置，其中，

所述控制部在使用了基于所述多个加热频率各自的检测功率信息的时间系数的频率跳变加热中，将各加热频率的负载入射功率控制为大致相等。