[发明专利]液晶显示装置的制造方法有效

专利信息
申请号: 201280042431.3 申请日: 2012-08-01
公开(公告)号: CN103797407A 公开(公告)日: 2014-05-14
发明(设计)人: 宫地弘一;三宅敢 申请(专利权)人: 夏普株式会社
主分类号: G02F1/1337 分类号: G02F1/1337;C08F2/44
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 龙淳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 液晶 显示装置 制造 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及液晶显示装置的制造方法。更具体而言,涉及在通过光取向处理形成的水平取向膜上形成用于改善特性的聚合物层的液晶显示装置的制造方法。 

背景技术

液晶显示装置(LCD:Liquid Crystal Display)是通过控制具有双折射性的液晶分子的取向来控制光的透过/遮断(显示的开/关)的显示装置。作为LCD的显示方式,可以列举:使具有负介电常数各向异性的液晶分子对基板面垂直取向的垂直取向(VA:Vertical Alignment)模式、使具有正或负介电常数各向异性的液晶分子对基板面水平取向并对液晶层施加横电场的面内开关(IPS:In-Plane Switching)模式、条纹状电场开关(FFS:Fringe Field Switching(边缘场开关))模式等。 

其中,在使用具有负的介电常数各向异性的液晶分子,作为取向限制用结构物设置有堤坝(肋)或电极的缺口部(狭缝)的MVA(Multi-domain Vertical Alignment,多畴垂直取向)模式中,不对取向膜实施摩擦处理也能够将施加电压时的液晶取向方位控制成多个方位,视角特性优异。但是,在现有的MVA-LCD中,突起上方或狭缝上方成为液晶分子的取向分割的边界,在白显示时的透过率变低,在显示中有时能够看见暗线,因此存在改善的余地。 

对此,作为获得高亮度且能够高速响应的LCD的方法,提出了利用使用聚合物的取向稳定化技术(以下也称为PS(Polymer Sustained,聚合物稳定)技术。)(例如参照专利文献1~8。)。其中,使用了聚合物的预倾角赋予技术(以下也称PSA(Polymer Sustained Alignment,聚合物稳定取向)技术)中,将混合了具有聚合性的单体、低聚物等可聚合成分的液晶组合物封入基板间,在基板间施加电压而使液晶分子倾斜(tilt)的状态下,使单体聚合而形成聚合物。由此,即使在去 除电压施加之后,也能够获得以规定的预倾角倾斜的液晶分子,能够将液晶分子的取向方位规定为一定方向。作为单体选择在热、光(紫外线)等的作用下聚合的材料。另外,液晶组合物中有时还可以混入用于引发单体聚合反应的聚合引发剂(例如参照专利文献4)。 

作为使用聚合性单体的另外的液晶显示元件可以列举例如PDLC(Polymer Dispersed Liquid Crystal,聚合物分散液晶)和PNLC(Polymer Network Liquid Crystal,聚合物网状液晶)(例如参照专利文献9。)。它们具有将聚合性单体添加于液晶中照射紫外线等而形成的聚合物,利用液晶和聚合物的折射率匹配失配进行光散射的开关。另外,作为另外的液晶显示元件也可以列举高分子稳定化强介电性(FLC(Ferroelectrics Liquid Crystal,铁电性液晶))液晶相(例如参照专利文献10。)、高分子稳定化OCB(Optically Compensated Bend,光学补偿弯曲)(例如参照非专利文献1。)等。 

另一方面,作为获得优异的视角特性的技术,近年来,探讨了不对取向膜实施摩擦处理也能够将施加电压时的液晶取向方位控制成多个方位,能够获得优异的视角特性的光取向技术。光取向技术是通过作为取向膜的材料使用对光表现出活性的材料并对形成的膜照射紫外线等光线,使取向膜产生取向限制力的技术(例如参照专利文献11。)。 

另外,最近研究发表了将光取向技术与使用上述聚合物的高分子稳定化技术组合时的、抑制迟滞的产生的方法(例如参照非专利文献2和3。)。在非专利文献2和3中,探讨了在对一个基板进行摩擦处理并对另一个基板进行光取向处理的IPS模式单元中,对混合于液晶的单体的浓度进行调整。 

现有技术文献 

专利文献 

专利文献1:日本专利第4175826号说明书 

专利文献2:日本专利第4237977号说明书 

专利文献3:日本特开2005-181582号公报 

专利文献4:日本特开2004-286984号公报 

专利文献5:日本特开2009-102639号公报 

专利文献6:日本特开2009-132718号公报 

专利文献7:日本特开2010-33093号公报 

专利文献8:美国专利第6177972号说明书 

专利文献9:日本特开2004-70185号公报 

专利文献10:日本特开2007-92000号公报 

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