[发明专利]液晶取向处理剂及使用该处理剂的液晶显示元件有效

专利信息
申请号: 201280036612.5 申请日: 2012-05-25
公开(公告)号: CN103718090A 公开(公告)日: 2014-04-09
发明(设计)人: 小田拓郎;筒井皇晶 申请(专利权)人: 日产化学工业株式会社
主分类号: G02F1/1337 分类号: G02F1/1337;C08K5/18;C08L79/08
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 胡烨
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 液晶 取向 处理 使用 液晶显示 元件
【说明书】:

技术领域

本发明涉及制作液晶取向膜时使用的液晶取向处理剂以及利用该处理剂的液晶显示元件。

背景技术

目前,作为液晶显示元件的液晶取向膜主要使用所谓的聚酰胺类的液晶取向膜,该膜通过在基板上涂布以聚酰胺酸等的聚酰亚胺前体或可溶性聚酰亚胺的溶液为主要成分的液晶取向处理剂并烧成而获得。液晶取向膜以控制液晶的取向状态为目的来使用。

随着液晶显示元件的高精细化,从减少余像现象的观点考虑,要求所使用的液晶取向膜中采用直流电压所蓄积的电荷的缓和快的材料。聚酰亚胺类液晶取向膜中,作为因直流电压而产生的余像消失为止的时间短的液晶取向膜,已知的有使用了除聚酰胺酸或含亚氨基的聚酰胺酸以外还含有特定结构的叔胺的液晶取向剂的液晶取向膜(例如参照专利文献1),或者使用了含有原料中采用具有吡啶骨架等的特定二胺的可溶性聚酰亚胺的液晶取向剂的液晶取向膜(例如参照专利文献2)等。

另外,液晶取向处理剂中,除蓄积的电荷缓和快的特性外,从减少显示不均的观点考虑,要求所使用的材料在摩擦取向处理中不易磨损。这些特性外,进一步的,近年来液晶显示元件的制造工序中包括通过ODF工程或PSA处理等照射紫外光的工序,因此要求材料具有耐紫外光性。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本专利特开平9-316200号公报

专利文献2:日本专利特开平10-104633号公报

发明内容

发明所要解决的技术问题

鉴于上述情况,本发明的目的是提供缩短由直流电压引起的余像消失所需的时间的效果高、耐紫外光性提高、磨损特性不减低的添加剂,加入了该添加剂的液晶取向处理剂,以及使用了该液晶取向处理剂的液晶显示元件。

解决技术问题所采用的技术方案

本发明者为了达成上述目的所进行认真研究的结果是,发现了除了选自聚酰亚胺前体及聚酰亚胺的至少一种的聚合物外,还含有其一部分在本申请提出前为新物质的特定物质的液晶取向处理剂可以达到上述目的,从而完成了本发明。本发明具有以下技术要点。

1.液晶取向处理剂,含有选自聚酰亚胺前体及聚酰亚胺的至少一种聚合物,和下式[1]表示的化合物,

[化1]

式中,R1为氢原子或乙烯基,n表示0~2的整数。

2.上述(1)记载的液晶取向处理剂,其中,相对于100质量份的选自聚酰亚胺前体及聚酰亚胺的至少一种聚合物,含有0.1~10质量份的式[1]所表示的化合物。

3.上述(1)或(2)记载的液晶取向剂,其中,式[1]中的R1为乙烯基。

4.上述(1)~(3)中任一项记载的液晶取向剂,其中,式[1]所表示的化合物为下述M1、M2、M3或M4,

[化2]

5.上述(1)~(4)中任一项记载的液晶取向剂,其中,含有0.5~10质量%的固体成分。

6.液晶取向膜,由上述(1)~(5)中任一项记载的液晶取向处理剂获得。

7.液晶显示元件,具有上述(6)记载的液晶取向膜。

8.下式(2)所表示的化合物,

[化3]

式中,n表示0~2的整数。

发明的效果

根据本发明,提供缩短由直流电压引起的余像消失所需的时间的效果高、耐紫外光性提高、磨损特性不减低的液晶取向处理剂。

另外,由于本发明的液晶取向处理剂中添加的上述化合物的一部分在本发明申请前为新化合物,因此本发明还提供上述新化合物。

实施发明的方式

[添加剂]

本发明的液晶取向处理剂中添加下式[1]所表示的化合物(以下称为本发明的添加剂)。

[化4]

式中,R1表示氢原子或乙烯基,n为0~2的整数,较好为1或2的整数。

尽管R1表示氢原子或乙烯基,但从得到的液晶取向膜的余像特性的观点看,较好为乙烯基。

本发明的添加剂的优选具体例可例举下述M1~M12。其中,较好的是M1、M2、M3或M4。

[化5]

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