[发明专利]防垢表面,以及包括该防垢表面的辐射源组件和流体处理系统无效

专利信息
申请号: 201280022125.3 申请日: 2012-05-07
公开(公告)号: CN103547536A 公开(公告)日: 2014-01-29
发明(设计)人: W·奥克菲 申请(专利权)人: 特洁安技术公司
主分类号: C02F5/08 分类号: C02F5/08;B08B17/00;B08B3/08;C02F1/30;C02F1/32;C02F1/66
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 陈文平
地址: 加拿大*** 国省代码: 加拿大;CA
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摘要:
搜索关键词: 表面 以及 包括 辐射源 组件 流体 处理 系统
【权利要求书】:

1.一种具有用于与水性液体接触的可浸没部分的元件,所述可浸没部分包含用于与所述水性液体接触的接触面,所述接触面配置成具有强酸性。

2.权利要求1限定的元件,其中所述接触面包含至少一个含有酸性物质的层。

3.权利要求2限定的元件,其中所述酸性物质包含Lewis酸。

4.权利要求2限定的元件,其中所述酸性物质包含Bronsted酸。

5.权利要求2限定的元件,其中所述酸性物质包含至少一种金属氧化物。

6.权利要求5限定的元件,其中所述至少一种金属氧化物包含至少一种选自元素周期表第3族至第13族的金属。

7.权利要求5限定的元件,其中所述至少一种金属氧化物包含至少一种碱土金属(元素周期表第2族)。

8.权利要求5限定的元件,其中所述至少一种金属氧化物包含至少一种碱金属(元素周期表第1族)。

9.权利要求5限定的元件,其中所述至少一种金属氧化物包含至少一种选自元素周期表镧系的金属。

10.权利要求5限定的元件,其中所述至少一种金属氧化物包含至少一种选自元素周期表锕系的金属。

11.权利要求2限定的元件,其中所述酸性物质包含至少一种显酸性的金属氧化物。

12.权利要求2限定的元件,其中所述酸性物质包含至少一种显两性的金属氧化物。

13.权利要求5限定的元件,其中所述至少一种金属氧化物选自Cr2O3、CrO3、Ta2O5、WO3、W2O5、ZrWxOy(其中x为2,y为0.5至8)、V2O5、Nb2O5、MoO3、Al2O3、TiO2、BeO、Ga2O3、SiO2、ZnO、La2O3、ThO2、CaO、ZrO2及其混合物。

14.权利要求2限定的元件,其中所述酸性物质包含酸性过渡金属氧化物。

15.权利要求2限定的元件,其中所述酸性物质为包含选自Fe、Ti、Zr、Hf、Sn、Si、Al及其组合中的至少一种的金属氧化物。

16.权利要求2限定的元件,其中所述酸性物质为包含选自Fe、Ti、Zr、Hf、Sn、Si、Al及其组合中的至少一种的金属氧化物,所述金属氧化物已经用硫酸盐、钨酸盐和钼酸盐中的至少一种处理过。

17.权利要求2限定的元件,其中所述酸性物质选自SO4/SnO2、SO4/ZrO2、SO4/HfO2、SO4/TiO2、SO4/Al2O3、SO4/Fe2O3、MoO3/ZrO2、SO4/SiO2、WO3/ZrO2、WO3/TiO2、WO3/Fe2O3、B2O3/ZrO2及其组合。

18.权利要求2限定的元件,其中所述酸性物质包含Nb2O5的水合物。

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