[发明专利]防反射性玻璃基体

权利要求书

1.一种玻璃基体，其为玻璃基体的至少1面具有多个凹凸、表面的玻璃部分被凹凸化的玻璃基体，其特征在于：

在利用二维傅立叶变换对所述多个凹凸进行近似处理后，将所述多个凹凸的凸部近似为正四棱锥的情形下以底边的一边长度作为凸部大小的情形下的频数分布中，

在将表示最大频数的大小设为Rp时，所述凸部的大小Rp为37nm以上且200nm以下，

表示所述凸部的倾斜角θ的频数分布中的最大频数的倾斜角θp为20°以上且75°以下，

在将表示所述倾斜角θ的累积频数分布中50%的值设为θ₅₀的情形下，θp与θ₅₀的差(θp-θ₅₀)的绝对值为30°以下，

并且，该凹凸部的由JIS B0601(1994)规定的表面粗糙度(Ra)为2nm以上且100nm以下，最大高低差P-V为35nm以上且400nm以下，含有该凹凸的面积除以观察面积所得的面积比S-ratio为1.1以上且3.0以下。

2.如权利要求1所述的玻璃基体，其特征在于：

在直至深度5nm为止的范围内，所述凹凸化的玻璃基体的表面的原子数浓度比F/Si为0.05以上。

3.如权利要求2所述的玻璃基体，其特征在于：

F/Si沿着深度方向从所述表面向内部连续减少。

4.如权利要求1～3中任一项所述的玻璃基体，其特征在于：

在从所述凹凸化的玻璃基体的表面的玻璃与空气的界面处划与凹凸化处理前的玻璃表面垂直的法线时，在玻璃基体的宽度方向1000nm的范围内，具有1条以上除所述玻璃基体上表面的空气层以外，通过1层以上相对于所述凹凸化处理前的玻璃基体表面位于玻璃基体侧的空气层的法线(其中，在该法线的左右25nm范围内划法线的情形下合并计为同一条法线)。

5.如权利要求1～4中任一项所述的玻璃基体，其特征在于：

通过使用氪气的BET吸附法测定的比表面积的相对比表面积(所述凹凸化处理后的玻璃基体的比表面积相对于未处理的玻璃基体的比表面积)为1.1以上且5.0以下。

6.如权利要求1～5中任一项所述的玻璃基体，其特征在于：

所述凹凸化的玻璃表面的至少50%以上的区域利用以SiO₂作为主成分的膜覆盖。

7.如权利要求1～6中任一项所述的玻璃基体，其特征在于：

在所述凹凸化的玻璃表面，利用以SiO₂作为主成分的膜覆盖直至凹部的内部。