[发明专利]涂敷装置以及涂敷方法有效

专利信息
申请号: 201280004422.5 申请日: 2012-02-14
公开(公告)号: CN103298566A 公开(公告)日: 2013-09-11
发明(设计)人: 近藤弘康;秋元俊之;酒井和美 申请(专利权)人: 株式会社东芝;东芝高新材料公司
主分类号: B05C13/02 分类号: B05C13/02;B05C7/04;B05C11/08;B05D7/22;B65D25/14
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 夏斌;陈萍
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 装置 以及 方法
【权利要求书】:

1.一种涂敷装置,向内部具有空间部的涂敷对象物的内面涂敷涂液,其特征在于,具有:

保持机构,保持上述涂敷对象物;

第1机构,使上述涂敷对象物以通过上述涂敷对象物内部的第1旋转轴为中心旋转;以及

第2机构,使上述涂敷对象物以与上述第1旋转轴交叉的第2旋转轴为中心旋转。

2.根据权利要求1所述的涂敷装置,其特征在于,

上述第2旋转轴沿大致铅垂方向延伸,上述第1旋转轴与上述第2旋转轴所形成的角度超过0度、小于90度。

3.根据权利要求1所述的涂敷装置,其特征在于,

上述涂敷对象物具有开口部和与上述开口部对置的底部,

上述保持机构,以不与上述第2旋转轴重合的方式保持上述涂敷对象物,并且以上述开口部和上述底部位于上述第1旋转轴上的方式、且以上述底部侧成为上述第2旋转轴侧的方式保持上述涂敷对象物。

4.根据权利要求1所述的涂敷装置,其特征在于,

上述保持机构具有保持部,该保持部包括:保持部主体;以及保持罩,覆盖上述涂敷对象物的至少一部分,将上述涂敷对象物保持于上述保持部主体。

5.根据权利要求1所述的涂敷装置,其特征在于,

具有转速控制机构,该转速控制机构对以上述第1旋转轴为中心的上述涂敷对象物的转速和以上述第2旋转轴为中心的上述涂敷对象物的转速的至少一方进行控制。

6.根据权利要求1所述的涂敷装置,其特征在于,

具有涂液供给机构,该涂液供给机构向上述涂敷对象物的内部供给涂液。

7.根据权利要求1所述的涂敷装置,其特征在于,

上述涂敷对象物为大致半球状、大致球状或大致圆筒状。

8.一种涂敷方法,其特征在于,

使用涂敷装置向涂敷对象物的内面涂敷涂液,上述涂敷装置具有:保持机构,保持上述涂敷对象物;第1机构,使上述涂敷对象物以通过上述涂敷对象物内部的第1旋转轴为中心旋转;以及第2机构,使上述涂敷对象物以与上述第1旋转轴交叉的第2旋转轴为中心旋转,

该涂敷方法具有:

第1工序,不进行以上述第2旋转轴为中心的上述涂敷对象物的旋转,而进行以上述第1旋转轴为中心的上述涂敷对象物的旋转;以及

第2工序,在上述第1工序之后,进行以上述第1旋转轴为中心的上述涂敷对象物的旋转,并且进行以上述第2旋转轴为中心的上述涂敷对象物的旋转。

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