[发明专利]透明导电性膜及触控面板有效
| 申请号: | 201280003661.9 | 申请日: | 2012-01-10 |
| 公开(公告)号: | CN103210454A | 公开(公告)日: | 2013-07-17 |
| 发明(设计)人: | 桐本高代志 | 申请(专利权)人: | 东丽薄膜先端加工股份有限公司 |
| 主分类号: | H01B5/14 | 分类号: | H01B5/14;B32B7/02;G06F3/041 |
| 代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 杨宏军;王大方 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 透明 导电性 面板 | ||
技术领域
本发明涉及目视辨认性良好的透明导电性膜及具有该透明导电性膜的触控面板。
背景技术
近年来,触控面板用途等中正在使用在聚酯膜等基材膜上设有透明导电膜的透明导电性膜。作为透明导电膜,通常使用氧化铟锡(ITO)等金属氧化物的薄膜,通过溅射法或真空蒸镀而层合在基材膜上。
作为触控面板的工作方式,电阻膜式为主流,但是近年来,静电电容式正迅速扩大。电阻膜式触控面板中使用的透明导电性膜一般由未被图案(pattern)化的透明导电膜(覆盖在基材一面上的透明导电性膜)构成。另一方面,对于静电电容式触控面板,通常使用层合有被图案化的透明导电膜的透明导电性膜。
对于静电电容式触控面板中使用的透明导电性膜,通常利用光蚀刻等将透明导电膜图案化,俯视图上存在透明导电膜的图案部和非图案部。
使用了上述透明导电膜被图案化的透明导电性膜的静电电容式触控面板中,能够目视辨认透明导电膜的图案部的、所谓的“透视”现象成为问题。该“透视”现象使作为显示装置的品质下降。
提出了抑制透明导电膜图案的透视的方法(例如专利文献1~6)。
专利文献1:日本特开2011-84075号公报
专利文献2:日本特开2010-228295号公报
专利文献3:日本特开2009-76432号公报
专利文献4:日本特开2006-301510号公报
专利文献5:日本特许第4661995号公报
专利文献6:日本特许第4364938号公报
发明内容
但是,专利文献1~6中公开的技术中,尚未达到充分满足抑制透明导电膜图案透视的效果。特别是在静电电容式的触控面板中,透明导电膜被用于光的入射表面侧,所以上述透视现象使作为显示装置的品质下降,因而正在寻求进一步的改善。
因此,本发明的目的在于提供一种透明导电膜图案的目视辨认(透视)被充分抑制的透明导电性膜。另外,本发明的另一个目的在于提供一种具有透明导电膜图案的目视辨认(透视)被充分抑制的透明导电性膜的触控面板。
能够实现上述课题的本发明的透明导电性膜,在折射率为1.61~1.70的基材膜的单面或双面上,按以下顺序具有:折射率为1.50~1.60、且基材膜每一单面侧的光学厚度为(1/4)λ的第1层;折射率为1.61~1.80的第2层;折射率为1.50以下的第3层;及折射率为1.81以上、且被图案化的透明导电膜,基材膜每一单面侧的上述第2层的光学厚度和上述第3层的光学厚度的总计为(1/4)λ,
其中,λ为380~780nm。
另外,本发明的触控面板具有本发明的透明导电性膜。
根据本发明,能够提供一种透视现象被充分抑制的透明导电性膜。本发明的透明导电性膜适合用于触控面板,特别适合用于静电电容式的触控面板。
具体实施方式
本发明的透明导电性膜在基材膜的单面或双面上按以下顺序设置有第1层、第2层、第3层、及透明导电膜。
本发明中,包括第1层、第2层、第3层、透明导电膜、及根据需要设置的SiO2膜或硬涂层仅设置在基材膜的单面上的方案、及设置在双面上的方案。
以下,针对构成本发明的透明导电性膜的各个构成要素进行详细说明。
[基材膜]
本发明的基材膜的折射率(nf)为1.61~1.70。作为这样的基材膜,优选使用聚酯膜,特别优选使用聚对苯二甲酸乙二醇酯膜。
基材膜的折射率(nf)优选1.62~1.69的范围,更优选1.63~1.68的范围,特别优选1.64~1.67的范围。
基材膜的厚度在20~300μm的范围较适当,优选为50~250μm的范围,更优选为50~200μm的范围。
[第1层]
本发明的第1层的折射率(n1)为1.50~1.60的范围。第1层的折射率(n1)优选1.51~1.60的范围,更优选1.52~1.59的范围,特别优选1.55~1.59的范围。
第1层的基材膜每一单面侧的光学厚度满足(1/4)λ是重要的。此处,基材膜每一单面侧的光学厚度是第1层的折射率(n1)和基材膜每一单面侧的厚度(d1)的积,λ是指可见光区域的波长范围即380~780nm。第1层的厚度(d1)的单位为nm。本发明中,光学厚度的单位为nm,是将小数点以后四舍五入得到的值。
即,第1层的光学厚度需要满足以下的关系式1。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东丽薄膜先端加工股份有限公司,未经东丽薄膜先端加工股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201280003661.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





