[发明专利]有机EL面板及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及有机EL面板及其制造方法。

背景技术

有源矩阵型的有机EL面板包括内置有用于控制各子像素的薄膜晶体管（TFT）的薄膜晶体管面板、以及配置在薄膜晶体管面板上的有机EL元件。

构成有机EL显示器的有机EL元件基本上包括：像素电极，其形成在薄膜晶体管面板的表面上；有机功能层，其配置在像素电极上并含有萤光体分子；以及对置电极，其配置在有机功能层上。

近年来，随着有机EL面板的大型化、高精细化，在薄膜晶体管面板表面上形成欠缺部的概率变高，其中，该欠缺部是形成在薄膜晶体管面板表面上的像素电极等布线的一部分出现欠缺而形成的。因此，目前提出了为谋求成品率的提高而对像素电极等薄膜晶体管面板上的布线的欠缺进行修复的各种方法（例如参照专利文献1～3）。

例如，在专利文献1中，公开了如下的方法：将导电性的修正膏（修正液）涂敷在布线的欠缺部上，使用激光对所涂敷的修正液进行照射来烧制，从而对布线进行修复。另外，在专利文献2中，公开了如下的方法：使用激光CVD装置对布线的欠缺部照射激光，使欠缺部析出金属从而对布线进行修复。进而，在专利文献3中公开了如下的方法：在使布线的欠缺部紧贴具有金属膜的转印部件的状态下，对欠缺部照射激光而将转印部件的金属膜转印在欠缺部上，从而对布线进行修复。

除此之外，还公知有如下的方法或装置，即：利用激光照射在具有欠缺部的像素的取光侧的热敏层形成光散射部，从而抑制有机EL元件中的缺陷像素的亮度的降低的方法（例如参照专利文献4、5）；在形成有机发光层后、进行下一工序之前，使用红外线检测有机发光层的图案缺陷的方法（例如参照专利文献6、7）；在形成对置电极之前，以绝缘物覆盖像素电极的欠缺部的方法（例如参照专利文献8）；基于所收纳的数据，使用激光蚀刻仅切断在所层叠的多个布线层中具有欠缺部的布线层的布线，以使所述欠缺部被断电的方法（例如参照专利文献9）；在平坦地整理而成的薄膜晶体管面板的表面具有像素电极的有机EL元件（例如专利文献10、11）；以及在薄膜晶体管的电极层之间具有防止电极间的短路的绝缘膜的有机EL元件（例如参照专利文献12、13）。

【专利文献1】日本特开平8－203898号公报

【专利文献2】日本特开2002－131888号公报

【专利文献3】日本特开2009－251119号公报

【专利文献4】日本特开2009－027036号公报

【专利文献5】美国专利申请公开第2009／0021156号说明书

【专利文献6】日本特开2009－158126号公报

【专利文献7】美国专利申请公开第2009／0159817号说明书

【专利文献8】日本特开2004－253214号公报

【专利文献9】日本特开2007－123616号公报

【专利文献10】日本特开2002－083691号公报

【专利文献11】美国专利申请公开第2000／0047567号说明书

【专利文献12】日本特开2004－103488号公报

【专利文献13】美国专利申请公开第2004／0119399号说明书

发明内容

但是，在专利文献1～3所公开的布线的修复方法均需要激光CVD装置或转印装置等昂贵的装置，这成为制造成本上升的原因。另外，在专利文献1～3所公开的布线的修复方法均需要时间，难以在短时间内修复布线。

进而，在专利文献1～3所公开的布线的修复方法用于修复较大的欠缺部，难以修复例如直径为20μm以下的较小欠缺部。具体而言，在想要如专利文献2那样以激光CVD法修复较小的欠缺部时，混入异物的可能性变高，因此这种修复方法并不理想。另外，在想要如专利文献1或专利文献3那样采用重新对欠缺部粘贴布线材料的方法对较小的欠缺部进行修复时，则粘贴布线材料的位置将会发生偏移，或者修复后的布线的膜厚变得不均匀。

因此，在像素电极具有较小的欠缺部时，采用现有的方法难以修复欠缺部。像素电极的欠缺部在有机EL元件中成为非发光区域（缺陷部）。因此，就算是很小的欠缺部，若不对其采取某些对策，则有机EL元件的亮度在局部降低，这成为有机EL面板的质量降低的原因。

本发明是鉴于上述问题而完成的，其目的在于提供一种有机EL面板的制造方法，其能够以简便迅速的方法防止像素电极的欠缺部中的局部的亮度降低。