[实用新型]一种硅料清洗装置组

说明书

技术领域

本实用新型涉及光电领域，具体涉及一种硅料清洗装置组。

背景技术

光电领域中，硅是非常重要和常用的半导体原料，是太阳能电池最理想的原材料。制备硅片的原料表面一般都会有杂质和一些氧化物，必须要经过清洗后才能进入后续工序使用。但是目前生产操作中，由于很多硅料的清洗设备采用酸洗、碱洗、水冲洗和超声清洗为一体的封闭式操作，所以无法实施监控，必须要等硅原料清洗程序结束后，才能观察到硅料的清洗情况；硅原料通过这种方法清洗时一般只能按照酸洗、冲洗、碱洗、冲洗、超声洗的流程进行清洗，但原料表面的杂质组分不同，机械地按照基本流程进行清洗原料，不仅费时费力，而且还造成了原料的不必要浪费，降低了生产效率。

发明内容

本实用新型的目的在于：克服现有技术的不足，提供一种硅料清洗装置组，将硅原料的清洗按照原料表面杂质的不同进行不同的清洗流程。

本实用新型所采取的技术方案是：

一种灵活清洗硅料的装置组，包括冲淋清洗机，所述冲淋清洗机的四周分别设有酸性清洗机、酸性浸泡机、碱性清洗机和超声清洗机。

本实用新型进一步改进方案是，所述酸性清洗机位于酸性浸泡机的对面，所述碱性清洗机位于超声清洗机的对面。

本实用新型更进一步改进方案是，所述冲淋清洗机的型号为SGPR-05硅料清洗机。

本实用新型更进一步改进方案是，所述酸性清洗机的型号为SGPR-04硅料酸洗机。

本实用新型更进一步改进方案是，所述酸性浸泡机的型号为SGPR-05硅料浸泡机。

本实用新型更进一步改进方案是，所述碱性清洗机的型号为SGSR-04硅料碱洗机。

本实用新型更进一步改进方案是，所述超声清洗机的型号为SGR28-05手动硅料清洗机。

本实用新型的有益效果在于：

用本实用新型进行硅原料的清洗时，先将硅原料放入冲淋清洗机内预冲洗，并在冲洗后对硅原料的表面进行检测；根据检测：将表面无附着物的硅原料送入超声清洗机中清洗，将表面有少许杂质的硅原料放入酸性清洗机进行酸洗，将表面杂质较多的硅原料放入酸性浸泡机内浸泡数小时；将经过酸洗或酸浸泡的硅原料放入冲淋清洗机中进行冲洗，冲洗后对硅原料表面进行观察；根据观察：将表面没有残留污垢的硅原料放入超声清洗机进行超声清洗，将表面仍有残留污垢的硅原料放入碱性清洗机内进行碱洗；将经过碱洗的硅原料放入冲淋清洗机中进行冲洗，之后再将硅原料送入超声清洗机中清洗。从上述工作过程可知，用本实用新型进行硅原料的清洗，既能够进行实时监控，又能保证硅原料的清洗质量，还能减少硅原料的损耗，节省成本、提高效率。

附图说明：                               

图1为本实用新型位置俯视示意图。

具体实施方式：

如图1所示，本实用新型包括冲淋清洗机1（本实施案例中，冲淋清洗机1的型号为SGPR-05硅料清洗机），所述冲淋清洗机1的四周分别设有酸性清洗机2（本实施案例中，酸性清洗机2的型号为SGPR-04硅料酸洗机）、酸性浸泡机3（本实施案例中，酸性浸泡机3的型号为SGPR-05硅料浸泡机）、碱性清洗机4（本实施案例中，碱性清洗机4的型号为SGSR-04硅料碱洗机）和超声清洗机5（本实施案例中，超声清洗机5的型号为SGR28-05手动硅料清洗机）；所述酸性清洗机2位于酸性浸泡机3的对面，所述碱性清洗机4位于超声清洗机5的对面。

本实用新型使用时，先将硅原料放入冲淋清洗机1内预冲洗，并在冲洗后对硅原料的表面进行检测；根据检测：将表面无附着物的硅原料送入超声清洗机5中清洗，将表面有少许杂质的硅原料放入酸性清洗机2进行酸洗，将表面杂质较多的硅原料放入酸性浸泡机3内浸泡数小时（本实施案例中，将硅原料浸泡1~3小时）；将经过酸洗或酸浸泡的硅原料放入冲淋清洗机1中进行冲洗，冲洗后对硅原料表面进行观察；根据观察：将表面没有残留污垢的硅原料放入超声清洗机5进行超声清洗，将表面仍有残留污垢的硅原料放入碱性清洗机4内进行碱洗；将经过碱洗的硅原料放入冲淋清洗机1中进行冲洗，之后再将硅原料送入超声清洗机5中清洗。