[实用新型]制备高利用率准单晶的装置有效
申请号: | 201220432075.3 | 申请日: | 2012-08-29 |
公开(公告)号: | CN202830216U | 公开(公告)日: | 2013-03-27 |
发明(设计)人: | 罗大伟;林洪峰;张凤鸣;王临水;路忠林 | 申请(专利权)人: | 天威新能源控股有限公司 |
主分类号: | C30B11/00 | 分类号: | C30B11/00;C30B29/06 |
代理公司: | 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 | 代理人: | 廖曾 |
地址: | 610000 四川省成都*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 制备 利用率 准单晶 装置 | ||
1.制备高利用率准单晶的装置,包括贴附在坩埚(4)外壁上的坩埚石墨侧护板(3),其特征在于:所述坩埚石墨侧护板(3)包括贴附在坩埚(4)外壁上的内绝热护板(2)、以及贴附在内绝热护板一侧的外绝热护板(1),所述外绝热护板(1)位于内绝热护板远离坩埚(4)的一侧;所述内绝热护板开有若干轴线互相平行的内绝热护板条形孔(21),外绝热护板开有若干轴线互相平行的外绝热护板条形孔(11),所述内绝热护板条形孔(21)的轴线与外绝热护板条形孔(11)的轴线互相平行;还包括连接在坩埚(4)底部的坩埚石墨底部护板(6)。
2.根据权利要求1所述的制备高利用率准单晶的装置,其特征在于:所述内绝热护板(2)远离坩埚(4)的一侧或内绝热护板(2)端面安装有滑道装置(22),所述外绝热护板(1)通过滑道装置(22)贴附在内绝热护板(2)上。
3.根据权利要求2所述的制备高利用率准单晶的装置,其特征在于:所述滑道装置(22)为U形槽,所述U形槽的开口方向指向内绝热护板(2)。
4.根据权利要求2所述的制备高利用率准单晶的装置,其特征在于:所述滑道装置(22)为至少一组对称设置在内绝热护板(2)上的L形组板,一组L形组板的数目为2个,一组L形组板与内绝热护板(2)组成两个开口相对的U形凹槽。
5.根据权利要求1-4中任意一项所述的制备高利用率准单晶的装置,其特征在于: 所述坩埚石墨底部护板(6)连接有石墨底座支柱(7)。
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