[实用新型]基于同心双轴的研磨冷却装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及研磨技术领域，特别涉及一种基于同心双轴的研磨冷却装置。 

背景技术

现有研磨装置通常采用分离的双轴分别带动分离器和分散器各自转动实现研磨，虽然分离的双轴分别驱动分离器与分散器可以实现研磨效果，但双轴通常高于相对两面，如上下设置或左右设置，因而其结构空间大，也不利于维护。 

另一种采用单轴结构，即在一个转轴上分别设有分离器与分散器，工作时分离器与分散器与转轴同步转动，分离器与分散器同旋转时分离器产生的涡流与分散器产生的涡流同步时，无法使研磨球与研磨材料有更好的接触机会，进而影响研磨效率。如果采用双轴同心结构，位于分离轴和分散轴之间的密封结构在工作时处在较高的温度，无法及时对进行降温密封结构，影响密封结构使用寿命和系统的稳定性，同时也缩小维护周期，增加维护成本。 

发明内容

本实用新型主要解决的技术问题是提供一种基于同心双轴的研磨冷却装置，该研磨冷却装置可以避免工作时位于分离轴和分散轴之间的密封结构在较高的工作温度，有效冷却密封结构，延长密封结构使用寿命，提高研磨系统工作的稳定性。 

为了解决上述问题，本实用新型提供一种基于同心双轴的研磨冷却装置，该研磨冷却装置包括：与筒盖转动连接的中空分散轴，在该分散轴内设有分离轴，在筒盖与分散轴之间设有两个第一密封结构，在分散轴与分离轴之间设有两个第二密封结构，在两个第一密封结构之间的筒盖上设有第一筒盖导孔和第二筒盖导孔，在两个第二密封结构之间的分散轴上设有第一分散轴导孔和第二分散轴导孔，在所述分散轴与分离轴之间还设有冷却溶剂输送装置，该冷却溶剂输送装置设于两个第二密封结构之间。 

进一步地说，所述第一分散轴导孔与第一筒盖导孔处于同一水平线上，第二分散轴导孔与第二筒盖导孔处于同一水平线上，其中，所述第一分散轴导孔与第二分散轴导孔上下错位分布。 

进一步地说，所述第一密封结构和第二密封结构机械密封部件，其中，所述第一密封结构包括错位设置于筒盖内侧和分散轴外侧两环形密封圈，设置于筒盖的环形密封圈位于另一环形密封圈上部；所述第二密封结构包括错位设置于分散轴内侧和分离轴外侧两环形密封圈，设于分离轴外侧的环形密封圈位于设置于分散轴内侧下方。 

进一步地说，所述分离轴腔壁设有螺旋结构，该螺旋结构的上升方向与分离轴转动方向相同。 

进一步地说，所述冷却溶剂输送装置包括设于分离轴外侧或分散轴内侧的环状螺旋体，该螺旋体与分离轴或分散轴之间间隙配合。 

进一步地说，所述冷却装置还包括热交换装置，该热交换装置包括盛冷却溶剂的容器，该容器内设有柱形螺旋状导管，在该容器上设有两个分别与第一筒盖导孔和第二筒盖导孔连通的容器接口。 

本实用新型还提供一种基于同心双轴的研磨冷却装置，研磨冷却装置包括：与筒盖转动连接的中空分散轴，在该分散轴内设有分离轴，在筒盖与分散轴之间设有两个第一密封结构，在分散轴与分离轴之间设有两个第二密封结构，在两个第一密封结构之间的筒盖上设有第一筒盖导孔和第二筒盖导孔，在两个第二密封结构之间的分散轴上设有第一分散轴导孔和第二分散轴导孔，位于所述第一筒盖导孔设置冷却溶剂增压泵。

进一步地说，所述第一密封结构和第二密封结构机械密封部件，所述第一密封结构包括错位设置于筒盖内侧和分散轴外侧两环形密封圈，设置于筒盖的环形密封圈位于另一环形密封圈上部；所述第二密封结构包括错位设置于分散轴内侧和分离轴外侧两环形密封圈，设于分离轴外侧的环形密封圈位于设置于分散轴内侧下方。 

进一步地说，在所述分散轴与分离轴之间还设有冷却溶剂输送装置，该冷却溶剂输送装置设于两个第二密封结构之间。 

进一步地说，在所述冷却溶剂输送装置包括设于分离轴外侧或分散轴内侧的环状螺旋体，该螺旋体与分离轴或分散轴之间间隙配合。 

本实用新型基于同心双轴的研磨冷却装置，包括设有分离轴的中空分散轴，在筒盖与分散轴之间设有两个第一密封结构，在分散轴与分离轴之间设有两个第二密封结构，位于两个第一密封结构之间的筒盖上设有第一筒盖导孔和第二筒盖导孔，在两个第二密封结构之间的分散轴上设有第一分散轴导孔和第二分散轴导孔，在分散轴与分离轴之间还设有位于两个第二密封结构之间的冷却溶剂输送装置。工作时，冷却溶剂朋第一筒盖导孔和第一分散轴导孔注入，在冷却溶剂输送装置的作用下将冷却溶剂输送到第二分散轴导孔，并第二筒盖导孔流出，进而降低第一密封结构和第二密封结构的温度，延长密封结构使用寿命，延长维护周期，减少维护成本，同时也提高研磨系统工作的稳定性。

附图说明