[实用新型]基于同心双轴的研磨冷却装置有效
申请号: | 201220424166.2 | 申请日: | 2012-08-25 |
公开(公告)号: | CN202823518U | 公开(公告)日: | 2013-03-27 |
发明(设计)人: | 向小月 | 申请(专利权)人: | 向小月 |
主分类号: | B02C17/18 | 分类号: | B02C17/18;B02C17/24 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 441700 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 同心 研磨 冷却 装置 | ||
1.基于同心双轴的研磨冷却装置,其特征在于:
包括与筒盖转动连接的中空分散轴,在该分散轴内设有分离轴,在筒盖与分散轴之间设有两个第一密封结构,在分散轴与分离轴之间设有两个第二密封结构,位于两个第一密封结构之间的筒盖上设有第一筒盖导孔和第二筒盖导孔,在两个第二密封结构之间的分散轴上设有第一分散轴导孔和第二分散轴导孔,在所述分散轴与分离轴之间还设有冷却溶剂输送装置,该冷却溶剂输送装置设于两个第二密封结构之间。
2.根据权利要求1所述的基于同心双轴的研磨冷却装置,其特征在于:
所述第一分散轴导孔与第一筒盖导孔处于同一水平线上,第二分散轴导孔与第二筒盖导孔处于同一水平线上,其中,所述第一分散轴导孔与第二分散轴导孔上下错位分布。
3.根据权利要求1或2所述的基于同心双轴的研磨冷却装置,其特征在于:
所述第一密封结构和第二密封结构机械密封部件,其中,所述第一密封结构包括错位设置于筒盖内侧和分散轴外侧两环形密封圈,设置于筒盖的环形密封圈位于另一环形密封圈上部;所述第二密封结构包括错位设置于分散轴内侧和分离轴外侧两环形密封圈,设于分离轴外侧的环形密封圈位于设置于分散轴内侧下方。
4.根据权利要求3所述的基于同心双轴的研磨冷却装置,其特征在于:
所述分离轴腔壁设有螺旋结构,该螺旋结构的上升方向与分离轴转动方向相同。
5.根据权利要求1所述的基于同心双轴的研磨冷却装置,其特征在于:
所述冷却溶剂输送装置包括设于分离轴外侧或分散轴内侧的环状螺旋体,该螺旋体与分离轴或分散轴之间间隙配合。
6.根据权利要求4或5所述的基于同心双轴的研磨冷却装置,其特征在于:
所述冷却装置还包括热交换装置,该热交换装置包括盛冷却溶剂的容器,该容器内设有柱形螺旋状导管,在该容器上设有两个分别与第一筒盖导孔和第二筒盖导孔连通的容器接口。
7.基于同心双轴的研磨冷却装置,其特征在于:
包括与筒盖转动连接的中空分散轴,在该分散轴内设有分离轴,在筒盖与分散轴之间设有两个第一密封结构,在分散轴与分离轴之间设有两个第二密封结构,在两个第一密封结构之间的筒盖上设有第一筒盖导孔和第二筒盖导孔,在两个第二密封结构之间的分散轴上设有第一分散轴导孔和第二分散轴导孔,位于所述第一筒盖导孔设置冷却溶剂增压泵。
8.根据权利要求7所述的基于同心双轴的研磨冷却装置,其特征在于:
所述第一密封结构和第二密封结构机械密封部件,所述第一密封结构包括错位设置于筒盖内侧和分散轴外侧两环形密封圈,设置于筒盖的环形密封圈位于另一环形密封圈上部;所述第二密封结构包括错位设置于分散轴内侧和分离轴外侧两环形密封圈,设于分离轴外侧的环形密封圈位于设置于分散轴内侧下方。
9.根据权利要求7或8所述的基于同心双轴的研磨冷却装置,其特征在于:
在所述分散轴与分离轴之间还设有冷却溶剂输送装置,该冷却溶剂输送装置设于两个第二密封结构之间。
10.根据权利要求9所述的基于同心双轴的研磨冷却装置,其特征在于:
在所述冷却溶剂输送装置包括设于分离轴外侧或分散轴内侧的环状螺旋体,该螺旋体与分离轴或分散轴之间间隙配合。
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