[实用新型]一种触摸屏及一种触控显示装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及触控显示技术领域，特别是涉及一种触摸屏及一种触控显示装置。

背景技术

触摸屏作为一种输入媒介，相比于键盘和鼠标，为使用者提供了更好的便利性。根据不同的实现原理，触摸屏可以分为电阻式、电容式、表面声波式、红外式、以及弯曲波式、有源数字转换器式和光学成像式等。目前被广泛应用的是电阻式和电容式触摸屏技术，在这两种触摸屏的结构中，均需要设置透明金属电极。

与电阻式触摸屏相比，电容式触摸屏具有反应时间快、可靠度佳以及耐用度高等优点。电容式触摸屏包括表面电容式和感应电容式，而感应电容式触摸屏又可分为自感电容式和互感电容式，其中，互感电容式触摸屏凭借其较高的灵敏度以及真正的多点触控，成为时下的主流触摸技术。

如图1a和图1b所示，互感电容式触摸屏采用透明金属氧化物（例如ITO等）在基板上制作像素电极，所述像素电极包括第一电极10和第二电极11，所述第一电极10为竖向电极，所述第二电极11为横向电极，所述第一电极10通过第一电极连接线12连接，所述第二电极11通过第二电极连接线13连接，其中，第一电极连接线12和第二电极连接线13在交叉位置（节点处）通过绝缘层隔离并形成互感电容（即交叉位置互感电容14），并且在第一电极10和第二电极11之间也会形成互感电容（即电极之间互感电容15）。当触摸屏幕时，由于影响触摸点附近两个电极之间的耦合，从而改变了两个电极之间的电容量，通过检测互感电容大小可以得到所有第一电极和第二电极的排列交汇位置的电容值，进而确定所有触摸点的位置。

传统的互感电容式触摸屏通常采用4次掩模构图工艺形成，具体流程为：

步骤一、在基板上沉积金属薄膜，通过第一次掩模构图工艺形成第一电极连接线图形，如图2a所示；

步骤二、在完成步骤一的基板上沉积绝缘层，通过第二次掩模构图工艺形成用于连接第一电极连接线和第一电极的过孔图形，如图2b所示；

步骤三、在完成步骤二的基板上沉积透明金属氧化物薄膜，通过第三次掩模构图工艺形成第二电极、第二电极连接线和第一电极图形，如图2c所示；

步骤四、在完成步骤三的基板上沉积保护层，通过第四次掩模构图工艺形成位于基板周边信号引导区的连接孔图形。

在传统的互感电容式触摸屏中，第二电极和第一电极之间的线宽约为几十到一百微米的数量级，请参照图3所示，像素电极覆盖区域的透过率T1与像素电极未覆盖区域的透过率T2有着明显的差异，这样，人眼可以明显看到像素电极的图案，即存在可视性问题，视觉效果较不理想。为了解决该问题，现有技术通常采用两种方式：一是在触摸屏上贴附一层覆盖玻璃，这样虽然可以明显改善像素电极的可视性问题，但是却使整个触摸屏的背光透过率减少，并且成本和重量也大大增加；二是将透过率较高的材料涂覆于像素电极图形上，实现像素电极可视性的减弱，如图4所示，在像素电极覆盖区域和像素电极未覆盖区域涂覆特定厚度和特定折射率的高透过率材料200，例如透明聚合有机物材料或氮化硅材料等，即可在特定波长处消除像素电极的可视性（像素电极覆盖区域的透过率T3与像素电极未覆盖区域的透过率T4基本相等），然而，这需要增加一次涂覆工序，使得制造工艺较为繁琐，并且增加了制造成本。

现有技术存在的缺陷在于，改善像素电极的可视性问题需要增加生产工序并投入较大的制造成本。

实用新型内容

本实用新型提供了一种触摸屏及一种触控显示装置，用以改善像素电极的可视性，且无需增加生产工序及制造成本。

本实用新型触摸屏，在基板之上包括：

位于第一层面上的第一电极、第二电极和第二电极连接线，所述第一电极和第二电极呈交叉排列，所述第二电极连接线在交叉处将相邻的第二电极连接；

位于第二层面上的第一电极连接线，在交叉处将相邻的第一电极搭接；

绝缘层，位于第一层面和第二层面之间，具有将第一电极连接线和第一电极搭接的过孔；

保护层，位于第一层面、绝缘层和第二层面所形成结构的之上；

其中，所述绝缘层和保护层，在基板未覆盖第一电极和第二电极区域的厚度之和，小于基板覆盖第一电极和第二电极区域的厚度之和。

可选的，所述绝缘层，在基板未覆盖第一电极和第二电极区域的厚度小于基板覆盖第一电极和第二电极区域的厚度。

或者，所述保护层，在基板未覆盖第一电极和第二电极区域的厚度小于基板覆盖第一电极和第二电极区域的厚度。

或者，所述绝缘层，在基板未覆盖第一电极和第二电极区域的厚度小于基板覆盖第一电极和第二电极区域的厚度；且