[实用新型]一种辅助磁控溅射镀膜工艺的玻璃表面清洗室装置

说明书

技术领域

本实用新型属于非晶硅薄膜太阳能电池镀膜技术领域，涉及一种辅助磁控溅射镀膜工艺的玻璃表面清洗室装置。

背景技术

目前，非晶硅薄膜太阳能电池在生产过程中，需要对玻璃清洗后进行镀膜，清洗设备中的风刀烘干，并不能将玻璃的水份及清洗液等杂质完全清除，这样，在进行镀膜时，会对镀膜产生很大的影响，将直接影响到镀膜的质量，及日后产品的性能等方面。所以，发明本装置，在对玻璃进行常规清洗后，增加等离子清洗，彻底的去除玻璃上的水份及杂质。

发明内容

本实用新型为提高玻璃表面的清洁以增加后序膜层的附着力，减少膜层的缺陷，设计了一种辅助磁控溅射镀膜工艺的玻璃表面清洗室装置，有效的提高了玻璃表面的清洁度，增强了镀膜的质量。

本实用新型采用的技术方案是：一种辅助磁控溅射镀膜工艺的玻璃表面清洗室装置，设置在磁控溅射镀膜腔室输入端的玻璃基板传送带的上方，关键在于：清洗室的结构中包括在室壁上固定的等离子体加热源、及等离子体加热源的开关控制管理电路，清洗室的输出端与磁控溅射镀膜腔室输入端相接。

本实用新型的关键在于：当玻璃基板前端进入清洗室的入口时，到位传感器将检测的到位信号发送至开关控制管理电路，开关控制管理电路控制等离子体加热源打开，对玻璃基板进行等离子清洗，之后，玻璃基板送出清洗室，清洗室的出口处设置的到位传感器感应到到位信号后，发送信号至开关控制管理电路，开关控制管理控制电路控制等离子体加热源关闭。 

本实用新型的有益效果是：在磁控溅射镀膜腔室前加等离子清洗室。玻璃完成普通、常规的清洗机工艺后，进入等离子清洗室，等离子体射流对玻璃基板镀膜面进行处理，清除玻璃表面的尘埃和湿气及其他杂质，然后玻璃基板进入磁控溅射镀膜腔室进行镀膜。增加等离子清洗室有效地去除了玻璃基板表面的尘埃、静电以及水份，提高玻璃了玻璃基板表面的清洁度，增强了膜层的附着力，减少了磁控溅射所镀膜层所致缺陷的几率。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图。

附图中，1是等离子体加热源，2是清洗室，3是传送带，4是到位传感器。

具体实施方式

一种辅助磁控溅射镀膜工艺的玻璃表面清洗室装置，设置在磁控溅射镀膜腔室输入端的玻璃基板传送带3的上方，重要的是：清洗室2的结构中包括在室壁上固定的等离子体加热源1、及等离子体加热源的开关控制管理电路，清洗室2的输出端与磁控溅射镀膜腔室输入端相接。

所述的清洗室2为真空，真空度为0.1torr~0.0001torr。

清洗室2的入口及出口处分别设置有到位传感器4，到位传感器4的信号输出端与控制管理电路的信号输入端连接。

所述的到位传感器4是光耦、或是红外传感器、或是激光传感器。

在具体实施时，在磁控溅射镀膜腔室前加等离子清洗室2。玻璃完成普通、常规的清洗机工艺后，进入等离子清洗室2，当玻璃基板前端进入清洗室2的入口时，到位传感器4将检测的到位信号发送至开关控制管理电路，开关控制管理电路控制等离子体加热源1打开，等离子体射流对玻璃基板镀膜面进行处理，清除玻璃表面的尘埃和湿气及其他杂质，之后，玻璃基板送出清洗室2，清洗室2的出口处设置的到位传感器4感应到到位信号后，发送信号至开关控制管理电路，开关控制管理控制电路控制等离子体加热源1关闭，然后玻璃基板进入磁控溅射镀膜腔室进行镀膜。增加等离子清洗室2有效地去除了玻璃基板表面的尘埃、静电以及水份，提高玻璃了玻璃基板表面的清洁度，增强了膜层的附着力，减少了磁控溅射所镀膜层所致缺陷的几率。