[实用新型]一种辅助磁控溅射镀膜工艺的玻璃表面清洗室装置有效
| 申请号： | 201220275266.3 | 申请日： | 2012-06-12 |
| 公开（公告）号： | CN202655294U | 公开（公告）日： | 2013-01-09 |
| 发明（设计）人： | 魏梵修;刘鑫;赵奇;田晓智;付东东;李建栋 | 申请（专利权）人： | 东旭集团有限公司;成都泰轶斯太阳能科技有限公司 |
| 主分类号： | B08B7/00 | 分类号： | B08B7/00;B08B11/04 |
| 代理公司： | 石家庄众志华清知识产权事务所(特殊普通合伙) 13123 | 代理人： | 王苑祥 |
| 地址： | 050021 河*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 辅助 磁控溅射 镀膜 工艺 玻璃 表面 清洗 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种辅助磁控溅射镀膜工艺的玻璃表面清洗室装置，设置在磁控溅射镀膜腔室输入端的玻璃基板传送带（3）的上方，其特征在于：清洗室（2）的结构中包括在室壁上固定的等离子体加热源（1）、及等离子体加热源的开关控制管理电路，清洗室（2）的输出端与磁控溅射镀膜腔室输入端相接。
2.根据权利要求1所述的一种辅助磁控溅射镀膜工艺的玻璃表面清洗室装置，其特征在于：所述的清洗室（2）为真空，真空度为0.1torr~0.0001torr。
3.根据权利要求1所述的一种辅助磁控溅射镀膜工艺的玻璃表面清洗室装置，其特征在于：清洗室（2）的入口及出口处分别设置有到位传感器（4），到位传感器（4）的信号输出端与控制管理电路的信号输入端连接。
4.根据权利要求1所述的一种辅助磁控溅射镀膜工艺的玻璃表面清洗室装置，其特征在于：所述的到位传感器（4）是光耦、或是红外传感器、或是激光传感器。
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