[实用新型]一种带中央芯片的吸收制品有效

专利信息
申请号: 201220267920.6 申请日: 2012-06-07
公开(公告)号: CN202682181U 公开(公告)日: 2013-01-23
发明(设计)人: 邓锦明;邓景衡 申请(专利权)人: 广东景兴卫生用品有限公司
主分类号: A61F13/47 分类号: A61F13/47;A61F13/53
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 曹志霞
地址: 528200 广东省佛山市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 中央 芯片 吸收 制品
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及卫生用品技术领域,特别涉及一种带中央芯片的吸收制品。

背景技术

在人们的日常生活中,某些人群不可避免地会用到卫生巾、尿片等用于吸收体液的吸收制品。目前市场上的吸收制品有着不同的尺寸和型号以满足不同的需要,随着社会的进步及人们生活水平的提高,人们对于卫生状况越来越重视,对吸收制品的使用观念和要求也不断进步,以满足卫生清洁和佩戴舒适的要求。但现在的吸收制品设计大多是围绕如何防止侧漏进行的,都忽略了体液集中在中央时如果渗透和吸收不够迅速的话,很容易造成与吸收制品接触的人体皮肤感染、发炎等,进而还会引发一些妇科疾病。

实用新型内容

本实用新型的目的在于,提供一种带中央芯片的吸收制品,以简单的结构达到增加体液渗透速度的目的,降低体液与皮肤接触的时间和面积,提高了使用的安全性。

为解决以上技术问题,本实用新型的技术方案是:

一种带中央芯片的吸收制品,包括吸收体,所述吸收体为层状物,从上至下依次包含表层、中央芯片、吸水层、导流层、防漏层和透气底膜,所述中央芯片设有多个渗透孔。本技术方案中,由于该带中央芯片的带中央芯片的吸收制品在在棉柔层下方增设了中央芯片,所述中央芯片上设有渗透孔,经期内可迅速将经血导流至吸水层,减少经血与女性接触的时间和面积,更加卫生,使用时更加舒适。

优选地,所述中央芯片面积小于其他任何一层的面积。

优选地,所述中央芯片居中设置。

优选地,所述中央芯片为椭圆形或长方形。

优选地,所述渗透孔的上端孔径大于下端孔径。

优选地,多个渗透孔均匀分布在中央芯片上。

优选地,所述防漏层为不渗漏的流延膜材料制成。

与现有技术相比,本实用新型的带中央芯片的吸收制品,由于其吸收体从上至下依次包含表层、中央芯片、吸水层、导流层、防漏层和透气底膜,所述中央芯片设有多个渗透孔,带中央芯片的吸收制品一般在使用状态时呈现凹状,体液大多会集中在中央部位,因此,在吸收体中央的体液可以快速地通过中央芯片的渗透孔渗透至吸水层,减少了体液与人体接触的时间和面积,减少发炎等症状发生的几率,结构简单,使用时更加舒适,更加安全。

进一步地,由于渗透孔上端口径大于下端口径的设计,已经渗透至吸水层的体液无法进行反向渗透,所以使用更加舒适。

附图说明

图1是本实用新型带中央芯片的吸收制品实施例的结构示意图;

图2是图1中带中央芯片的吸收制品的横截面示意图;

图3是图1中中央芯片的横截面示意图;

图中,有关附图标记如下:

1——表层;

2——中央芯片;

3——吸水层;

4——导流层;

5——防漏层;

6——透气底膜;

7——渗透孔;

71——上端;

72——下端。

具体实施方式

本实用新型的基本构思是,提供一种带中央芯片的吸收制品,包括吸收体,所述吸收体为层状物,从上至下依次包含表层、中央芯片、吸水层、导流层、防漏层和透气底膜,所述中央芯片设有多个渗透孔。由于带中央芯片的吸收制品一般在使用状态时呈现凹状,体液大多会集中在中央部位,通过中央芯片的渗透孔能够快速地导流至吸收层。

以下通过一优选的实施例对本实用新型的带中央芯片的吸收制品进行详细的说明。

参见图1和图2,本实施例的带中央芯片的吸收制品由吸收体组成,所述吸收体为层状物,从上至下依次包含表层1、中央芯片2、吸水层3、导流层4、防漏层5和透气底膜6,中央芯片2设有多个渗透孔7。渗透孔在中央芯片上均匀分布。中央芯片居中设置,其长、宽均小于其他层的长、宽。

使用时,由于吸收体处于凹形状态,导致体液,如经血多数集中在中央位置,经血通过中央芯片2的渗透孔7导流至吸水层3,可以加快经血渗透的速度,减少经血与女性接触的时间和面积,防止发炎等症状的出现,增加舒适度。

参见图3,其中中央芯片2的渗透孔7的上端71口径大于下端72口径,这样的设计可以在经血顺利向吸水层3导流的同时有效的防止经血逆流,更加安全。

本实施例中,中央芯片的形状为长方形,在其他实施例中,也可为椭圆形或长圆形等形状。

以上仅是本实用新型的优选实施方式,应当指出的是,上述优选实施方式不应视为对本实用新型的限制,本实用新型的保护范围应当以权利要求所限定的范围为准。对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型的精神和范围内,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。

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