[实用新型]除垢装置及水处理系统有效
申请号: | 201220243772.4 | 申请日: | 2012-05-28 |
公开(公告)号: | CN202705124U | 公开(公告)日: | 2013-01-30 |
发明(设计)人: | 胡鑴浩 | 申请(专利权)人: | 深圳市卓恒易电子科技有限公司;汇鑫科技集成有限公司 |
主分类号: | C02F5/00 | 分类号: | C02F5/00 |
代理公司: | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 丁建春 |
地址: | 518000 广东省深圳市宝安*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 除垢 装置 水处理 系统 | ||
技术领域
本实用新型涉及水处理领域,特别是涉及一种除垢装置及水处理系统。
背景技术
在各种供排水系统的水中,存在着钙、镁等离子,而钙、镁等离子容易和水中的酸根离子结合生成难容物质,形成水垢,附着在水管上,堵塞水管通路,影响供排水效率。严重时,还会使水管堵塞,甚至发生事故。循环系统中的水运行一段时间后会产生水垢,而水垢的形成不仅会堵塞管道,减小液体流通面积,加大系统功率损耗,缩短设备使用寿命,降低热交换器传热效率,还会引起微生物细菌的大量繁衍,导致材料的腐蚀。因此如何有效地控制水垢的生成对生产的安全运行至关重要。硬水在管道表面生成的水垢主要由钙、镁等离子的碳酸盐、硫酸盐等组成。
目前采用的阻垢、抑垢方法有物理方法和化学方法。化学方法一般是通过添加药剂使硬水软化,或通过添加阻垢剂使其与成垢离子形成络合物,或使碳酸钙晶体等发生晶格畸变,或分散碳酸钙微晶等以防止钙垢、镁垢等在热交换器表面沉积,从而达到阻垢的目的。物理方法主要包括磁场水处理技术、ECO-GEM电气石防垢技术、静电水处理技术、脉冲射电水处理技术、超声波水处理技术等。其中磁场水处理技术能有效地防止管道和设备结垢,避免因投加化学药剂对设备和环境造成的影响和污染。而与其他物理阻垢方法相比,磁处理技术使用方法简单、投资小,并更具有高效节能、绿色环保等优点,因而越来越受到人们的重视,系统地研究磁处理的阻垢机理具有重要的现实意义。
在目前,虽有采用电子技术进行防垢除垢,但由于对除垢原理的理 解和认识,以及所采用的方法的局限性,效果并不理想。而且这些产品全都需要对用户的管道设备进行改造。这对于用户来说具有相当大的难度。因为,对于复杂、昂贵的设备管道系统,微小的变动都可能对整个管道系统的正常运转产生影响,给用户的设备的运行造成困难。
实用新型内容
本实用新型提供一种除垢装置及水处理系统,可以在不对现有的设备管道系统进行改变的情况下实现电磁除垢处理的功能,且使用方便、安全,结构紧凑、简单,防垢效果理想。
本实用新型为解决以上技术问题而采用的一个技术方案是:提供一种除垢装置,包括:主控模块,主控模块包括输出端口,主控模块控制输出端口输出具有第一频率的第一脉冲信号;振幅放大模块,用于对第一脉冲信号进行振幅放大处理;隔直模块,对经振幅放大处理后的第一脉冲信号进行隔直处理以产生交流信号;线圈模块,交流信号输入至线圈模块的一端;负载电阻,线圈的另一端与负载电阻的一端连接,负载电阻的另一端接地。
其中,主控模块进一步包括输入端口,除垢装置进一步包括:线圈检测模块,线圈检测模块用于检测负载电阻的一端与另一端之间的压降值,在压降值存在时输出中断信号至输入端口,在压降值不存在时停止输出中断信号至输入端口;主控模块进一步根据中断信号控制输出端口输出具有第二频率的第二脉冲信号。
其中,除垢装置进一步包括:提示模块,包括至少一个发光二极管,线圈检测模块进一步输出中断信号至发光二极管,发光二极管根据中断信号进行发光。
其中,线圈模块包括水管和两个串联线圈,串联线圈分别缠绕在水管上。
其中,每个串联线圈的圈数在10圈至15圈之间,串联线圈之间的距离在10至15厘米之间。
其中,串联线圈的材料为硅胶线。
其中,第一滤波电容与线圈之间进一步设置有功率放大模块,功率放大模块对交流信号进行功率放大处理并将经功率放大处理后的交流信号输入至线圈的一端。
其中,振幅放大模块包括:第一电阻,第一电阻的一端与输出端口连接;第一三极管,第一三极管的基极与第一电阻的另一端连接,第一三极管的发射极接地;第二电阻,一参考电压输入至第二电阻的一端,第二电阻的另一端与第一三极管的集电极连接;第二三极管,第二三极管的基极与第一三极管的集电极连接,参考电压进一步输入至第二三极管的集电极;第三三极管,第三三极管的基极和集电极均与第二三极管的发射极连接,第三三极管的发射极与第二三极管的基极连接;其中,第二三极管的发射极输出经振幅放大处理后的第一脉冲信号至第一滤波电容。
其中,参考电压的电压值在10伏至15伏之间。
本实用新型为解决以上技术问题而采用的另一个技术方案是:提供一种水处理系统,其包括上述的除垢装置。
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