[实用新型]除垢装置及水处理系统有效
申请号: | 201220243772.4 | 申请日: | 2012-05-28 |
公开(公告)号: | CN202705124U | 公开(公告)日: | 2013-01-30 |
发明(设计)人: | 胡鑴浩 | 申请(专利权)人: | 深圳市卓恒易电子科技有限公司;汇鑫科技集成有限公司 |
主分类号: | C02F5/00 | 分类号: | C02F5/00 |
代理公司: | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 丁建春 |
地址: | 518000 广东省深圳市宝安*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 除垢 装置 水处理 系统 | ||
1.一种除垢装置,其特征在于,包括:
主控模块,所述主控模块包括输出端口,所述主控模块控制所述输出端口输出具有第一频率的第一脉冲信号;
振幅放大模块,用于对所述第一脉冲信号进行振幅放大处理;
隔直模块,对经振幅放大处理后的第一脉冲信号进行隔直处理以产生交流信号;
线圈模块,所述交流信号输入至所述线圈模块的一端;
负载电阻,所述线圈的另一端与所述负载电阻的一端连接,所述负载电阻的另一端接地。
2.根据权利要求1所述的除垢装置,其特征在于,所述主控模块进一步包括输入端口,所述除垢装置进一步包括:
线圈检测模块,所述线圈检测模块用于检测所述负载电阻的一端与另一端之间的压降值,在所述压降值存在时输出中断信号至所述输入端口,在所述压降值不存在时停止输出所述中断信号至所述输入端口;
主控模块进一步根据所述中断信号控制所述输出端口输出具有第二频率的第二脉冲信号。
3.根据权利要求2所述的除垢装置,其特征在于,所述除垢装置进一步包括:
提示模块,包括至少一个发光二极管,所述线圈检测模块进一步输出所述中断信号至所述发光二极管,所述发光二极管根据所述中断信号进行发光。
4.根据权利要求3所述的除垢装置,其特征在于,所述线圈模块包括水管和两个串联线圈,所述串联线圈分别缠绕在所述水管上。
5.根据权利要求4所述的除垢装置,其特征在于,每个所述串联线圈的圈数在10圈到15圈之间,所述串联线圈之间的距离在10至15厘米之间。
6.根据权利要求4所述的除垢装置,其特征在于,所述串联线圈的 材料为硅胶线。
7.根据权利要求1所述的除垢装置,其特征在于,所述第一滤波电容与所述线圈之间进一步设置有功率放大模块,所述功率放大模块对所述交流信号进行功率放大处理并将经功率放大处理后的交流信号输入至所述线圈的一端。
8.根据权利要求1所述的除垢装置,其特征在于,所述振幅放大模块包括:
第一电阻,所述第一电阻的一端与所述输出端口连接;
第一三极管,所述第一三极管的基极与所述第一电阻的另一端连接,所述第一三极管的发射极接地;
第二电阻,一参考电压输入至所述第二电阻的一端,所述第二电阻的另一端与所述第一三极管的集电极连接;
第二三极管,所述第二三极管的基极与所述第一三极管的集电极连接,所述参考电压进一步输入至所述第二三极管的集电极;
第三三极管,所述第三三极管的基极和集电极均与所述第二三极管的发射极连接,所述第三三极管的发射极与所述第二三极管的基极连接;
其中,所述第二三极管的发射极输出所述经振幅放大处理后的第一脉冲信号至所述隔直模块。
9.根据权利要求8所述的除垢装置,其特征在于,所述参考电压的电压值在10伏至15伏之间。
10.一种水处理系统,其特征在于,包括权利要求1-9任一项所述的除垢装置。
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