[实用新型]一种水洗装置及刻蚀设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及半导体加工技术领域，特别涉及一种水洗装置及刻蚀设备。

背景技术

半导体尤其是薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)的阵列(Array)制造工艺中均需要通过对若干层金属层进行镀膜、光刻、刻蚀、去胶工艺后形成规则的电路图案，从而驱动各个元器件动作。在刻蚀环节，一个重要的工艺指标即是坡度角(Profile-Angle)，即刻蚀断面的角度。在刻蚀完的基板上，如果坡度角不均匀，或者断面不齐整，都会影响光线的传播，导致视觉差异(Mura)的产生。

基板从刻蚀设备的刻蚀装置进入水洗装置时，基板表面均携带少量刻蚀液，刻蚀液一般为硝酸、硫酸、磷酸及添加剂等按一定比例形成的混合酸，由于水对基板表面刻蚀液的稀释，部分金属薄膜的刻蚀速率会加快。当基板表面不均匀接触水时，刻蚀速率加速不均，对于单层薄膜的结构，这种加速不均会导致坡度角差异的产生，而对于复合膜层结构，这种差异将导致断面不齐整。

在现有技术中，水洗装置包括第一水洗室和若干常规水洗室；第一水洗室内设置有用于传送基板的若干传动滚轴、与基板传动方向呈一定角度(一般为30～60度)喷淋的水刀以及与基板表面垂直方向的喷嘴。当基板在进入水洗装置时，首先要经过第一水洗室中设置的水刀以及喷嘴喷淋进行水洗，从而对基板上残留的刻蚀液进行稀释；当基板上残留的刻蚀液被稀释的不再与金属膜层反应时，将基板送入其他常规水洗室进行常规水洗。

由于第一水洗室中设置的水刀的刀口容易堵塞，堵塞的地方水流的流量以及喷淋压力会产生异常，同时，各个喷嘴之间也存在喷淋压力以及流量的差异，从而导致基板表面的刻蚀液不能够接收水的均匀稀释，造成基板残留的刻蚀液的刻蚀速率加速不均，导致坡度角差异或者断面不齐整的现象产生。

因此，如何提供一种能够均匀地对基板残留的刻蚀液进行稀释的水洗装置及刻蚀设备，以提高基板刻蚀的坡度角的均匀性，进而提高产品质量，是本领域技术人员需要解决的技术问题。

实用新型内容

本实用新型实施例提供一种具有水洗槽的刻蚀设备的水洗装置，该水洗装置能够均匀地对基板残留的刻蚀液进行稀释，从而提高基板刻蚀坡度角的均匀性，提高产品质量。

为达到上述目的，本实用新型提供以下技术方案：

一种刻蚀设备的水洗装置，包括第一水洗室，所述第一水洗室内部设有用于浸泡基板的水洗槽；

所述水洗槽的第一侧壁设有与所述第一水洗室的进口相对的基板进口，所述水洗槽的第二侧壁设有与所述第一水洗室的出口相对的基板出口，且所述基板进口设有进口开关门，所述基板出口设有出口开关门；所述基板进口和所述基板出口的上端低于所述水洗槽的溢流高度；

所述第一水洗室内的多个传动滚轴形成的传动通路贯穿所述基板进口和所述基板出口。

优选地，所述第一水洗室的进口处设有气帘生成装置。

优选地，所述第一水洗室的进口与所述基板进口之间、所述水洗槽内靠近基板进口处、所述水洗槽内靠近基板出口处、以及所述第一水洗室的出口与所述基板出口之间分别设有压紧所述基板的稳定部。

优选地，还包括：

供水部，包括至少一个一端伸入所述水洗槽内的排水管、以及一端与注水装置连通的供水管；所述排水管位于所述水洗槽的部分设有排水口，且所述排水管的另一端与所述供水管连通。

优选地，所述供水管为一个，所述排水管为多个，每一个所述排水管的另一端都与所述供水管连通；

所述排水管位于所述水洗槽内的端部封闭，所述排水口为每一个所述排水管位于所述水洗槽内的侧壁上设置的多个喷水孔。

优选地，所述供水部还包括罩壳，所述排水管伸入所述罩壳具有的空腔，且所述喷水孔的喷水方向指向所述罩壳的侧壁；所述罩壳朝向所述基板表面的方向开口。

优选地，所述罩壳的横截面的形状为较短底边上的内角取值为120°～150°的正梯形，所述正梯形的下底朝向所述基板表面，所述喷水孔的喷射方向与所述正梯形下底与上底的公垂线之间的夹角取值范围为：30°～45°。

优选地，所述水洗槽的侧壁上还设置有溢流口，且所述溢流口设置有高度可调的挡板。

优选地，所述第一水洗室的底部设置有废液排放管。

在上述技术方案的基础上，本实用新型还提供了一种刻蚀设备，该刻蚀设备包括刻蚀装置，还包括上述技术方案中提到的水洗装置。