[实用新型]一种防水药真空蒸发镀膜辅助装置

说明书

【技术领域】

本实用新型涉及一种PVD(Physical Vapor Deposition)镀膜装置，特别指一种防水药真空蒸发镀膜辅助装置。

【背景技术】

PVD(Physical Vapor Deposition)，指利用物理过程实现物质转移，将原子或分子由源转移到基材表面上的过程，具有广泛的应用，如镜片的防水膜层的镀膜过程。

目前，镜片的防水膜是在基片上镀防水膜形成的，其一般采用蒸发防水药的方法，在真空镀膜机内将防水药均匀镀制在基片上。具体是：在真空环境中，把盛有防水药的铜坩埚放置在薄片式钼舟中，钼舟两端在通电后发热升温，防水药受热蒸发，使防水药沉积到基片表面形成薄膜。用钼作为加热元件，主要由于钼在真空环境中耐高温，其熔点为2610℃，而防水药需在较高温度才能蒸发。

但这种镀膜技术操作不方便，加热蒸发不均匀，且存在蒸发发散角度难以控制的关键性问题。一般的，防水药会盛放在一个直径18*7mm的铜坩埚内，铜坩埚需要平放于钼舟上方，容易滑落操作危险，并且由于铜坩埚只有底部与钼舟接触，热量局限于底部向上传递，导致防水药蒸发速率不均匀，影响了膜层均匀性，并且由于铜坩埚为简单向上开口设计，直接导致蒸发发散角度无法控制。又由于防水药及铜坩埚尺寸设计都为统一规格，对于不同型号真空镀膜机，真空腔体体积差距较大，基片与坩埚放置距离各不相同，而防水药蒸发发散角度无法控制，不仅导致大量的浪费了价格昂贵的防水药，而且防水膜的均匀性也会受到影响。综上所述，目前这种采用钼舟作为镀膜辅助装置存在如下缺点：

1、操作不方便：需把铜坩埚平放于钼舟上，操作危险；

2、加热蒸发不均匀：铜坩埚只有底面与钼舟接触导致蒸发速率不均匀；

3、蒸发发散角度难以控制：铜坩埚、防水药规格已统一化，其简单向上开口设计，使得蒸发角度难以控制；

4、钼舟使用寿命低下，需要经常更换。

【实用新型内容】

本实用新型要解决的技术问题，在于提供一种防水药真空蒸发镀膜辅助装置，采用组合半封闭式钼钳锅代替现有技术中的钼舟，可以很好地解决操作不便，加热不均匀，蒸发发散角度难以控制的问题。

本实用新型是这样实现的：一种防水药真空蒸发镀膜辅助装置，包括第一钼配件和第二钼配件；所述第一钼配件包括第一内腔组合壁、盖板以及电源连接柄，所述第一内腔组合壁连接在盖板的底部，盖板上设有蒸发孔，电源连接柄连接在盖板或第一内腔组合壁的一侧；所述第二钼配件包括底座和第二内腔组合壁，第二内腔组合壁连接于底座的上方；且所述第一内腔组合壁和第二内腔组合壁相互卡合定位组合形成一用于容置铜钳锅的内腔，并使盖板上的蒸发孔位于内腔的上方。

所述第一钼配件的第一内腔组合壁设有第一卡槽和第一卡片，所述第二内腔组合壁设有第二卡槽和第二卡片，且所述第一卡槽与第二卡片的数量相等、第一卡片和第二卡槽的数量相等，所述第一卡片伸入第二卡槽卡合，所述第二卡片伸入第一卡槽卡合。

所述第一卡槽、第一卡片、第二卡槽、第二卡片的数量为一，所述第一卡槽位于第二卡槽的上方。

所述第一内腔组合壁、盖板以及电源连接柄一体成型，所述第二钼配件的底座和第二内腔组合壁一体成型。

本实用新型的优点在于：通过第一钼配件和第二钼配件组合形成用于容置铜钳锅的内腔，形成组合半封闭式钼钳锅，铜钳锅内盛有防水药；在第一钼配件接上加热电源电极，置于真空镀膜机中，此时通电加热本实用新型的辅助装置，辅助装置通过底座及侧面的第一内腔组合壁和第二内腔组合壁与铜坩埚的接触，将热量均匀传递给铜坩埚，使铜坩埚内防水药蒸发镀到工件(如镜片)表面上，形成防水膜。由于蒸发出的防水药受到蒸发孔的约束，从而控制了蒸发角；铜坩埚置于内腔中，各个方位都会受到加热，加热变得均匀后使防水药整体蒸发速率变得均匀；镀膜结束后只需取下第二钼配件就可以带出置于底座上的铜坩埚，操作方便安全。

【附图说明】

下面参照附图结合实施例对本实用新型作进一步的说明。

图1是本实用新型辅助装置的组合状态结构示意图。

图2是本实用新型辅助装置的分解结构示意图。

图3是本实用新型辅助装置的第一钼配件的反面结构示意图。

图4是第一钼配件的剖视示意图。

图5是第二钼配件的剖视示意图。

图6是本实用新型辅助装置的使用状态的剖视示意图。

【具体实施方式】