[实用新型]一种玻璃减薄设备有效
申请号: | 201220126731.7 | 申请日: | 2012-03-29 |
公开(公告)号: | CN202519159U | 公开(公告)日: | 2012-11-07 |
发明(设计)人: | 史文森 | 申请(专利权)人: | 北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | C03C15/00 | 分类号: | C03C15/00 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 黄志华 |
地址: | 100176 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 玻璃 设备 | ||
1.一种玻璃减薄设备,包括:用于喷射刻蚀溶液到待减薄的玻璃基材上的喷射装置,其特征在于,还包括:
检测装置,用于获取所述玻璃基材上的缺陷区域所在的位置信息;
开关装置,包括若干个按矩阵式排列在同一平面上的阀门,且所述开关装置与所述玻璃基材平行设置;
喷射器,用于通过阀门,向附着有刻蚀溶液的玻璃基材上的所述缺陷区域进行喷射;
处理器,与所述检测装置、开关装置及喷射器相连接,用于根据所述检测装置获取的所述缺陷区域的位置信息,向所述开关装置发送控制信号,开启与所述缺陷区域的位置对应的阀门,并控制所述喷射器通过开启的阀门向所述缺陷区域进行喷射,减少所述缺陷区域附着的刻蚀溶液。
2.如权利要求1所述的设备,其特征在于,所述阀门所在矩阵平面的面积不小于所述玻璃基材的面积。
3.如权利要求1所述的设备,其特征在于,所述检测装置具体为:激光扫描定位器;
所述激光扫描定位器,用于检测所述玻璃基材上缺陷区域的位置坐标信息,并将所述位置坐标信息发送给所述处理器。
4.如权利要求1所述的设备,其特征在于,所述检测装置的数量为两个,分别设于所述玻璃基材的两侧,用于对所述玻璃基材的两侧表面分别进行检测。
5.如权利要求2所述的设备,其特征在于,所述开关装置具体为阀门矩阵开关或激光矩阵开关。
6.如权利要求5所述的设备,其特征在于,所述激光矩阵开关采用冷激光源,用于降低所述缺陷区域的刻蚀溶液的刻蚀速率。
7.如权利要求5所述的设备,其特征在于,所述开关装置的数量为两个,分别位于所述玻璃基材的两侧。
8.如权利要求1所述的设备,其特征在于,所述喷射器具体为高压气枪或高压水枪。
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