[实用新型]阵列基板及包括该阵列基板的显示装置

权利要求书

1.一种阵列基板，包括限定了像素区域的栅线和数据线，所述像素区域包括薄膜晶体管区域以及像素电极图形区域，所述薄膜晶体管区域中形成有栅极、源极、漏极、栅绝缘层、有源层以及钝化层，且在所述源极和漏极之间形成有沟道部，所述沟道部凹陷至所述有源层内部；所述像素电极图形区域中形成所述栅绝缘层、像素电极、所述钝化层以及公共电极，其中，所述公共电极和像素电极构成了多维电场；

其特征在于，在所述钝化层与所述公共电极之间形成有彩色树脂层。

2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述像素电极形成于所述有源层表面除沟道部以外的部位上，并延伸覆盖所述像素电极图形区域中的所述栅极绝缘层；

在所述薄膜晶体管区域内，所述漏极及源极形成于所述像素电极上。

3.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述彩色树脂层采用的材料为介电常数为3～5F/m且厚度为0.5μm～2μm的材料。

4.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述像素电极和公共电极采用的材料为透明导电的金属材料。

5.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，在所述薄膜晶体管区域内，所述源极及漏极形成于有源层上；

在所述像素电极图形区域与薄膜晶体管区域相结合的部位处，所述像素电极的一端搭接于所述源极的一端上。

6.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述薄膜晶体管区域内，所述钝化层上形成有黑矩阵层。

7.如权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，所述黑矩阵层为不透明树脂层，其所采用的材料为面电阻大于10¹²Ω/sq、厚度为0.5μm～2μm且光密度为4以上的材料。

8.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1至7任一项所述的阵列基板。