[发明专利]利用环境条件控制的能量协助磁记录头及其系统有效

专利信息
申请号: 201210592667.6 申请日: 2012-12-31
公开(公告)号: CN103187071B 公开(公告)日: 2017-12-01
发明(设计)人: 威廉·D·琼斯;大卫·L·惠特克;田河育也;城石芳博 申请(专利权)人: HGST荷兰有限公司
主分类号: G11B5/127 分类号: G11B5/127
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司11245 代理人: 赵蓉民
地址: 荷兰,阿*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 利用 环境 条件 控制 能量 协助 记录 及其 系统
【权利要求书】:

1.一种磁记录系统,包括:

磁介质;

磁头,所述磁头包括:

写入元件,所述写入元件被配置成在所述磁介质上记录数据;

微波协助磁记录MAMR元件,所述MAMR元件被配置成协助在所述磁介质上记录,所述MAMR元件包括微波生成部,所述微波生成部接收用于其操作的电流;和

读取元件,所述读取元件被配置成从所述磁介质读取数据;

第一装置,所述第一装置被配置成测量与所述MAMR元件和所述磁介质相关的环境条件,所述环境条件至少包括:温度、所述读取元件的再生信号以及所述MAMR元件和所述磁介质之间的间隙;和

控制器,所述控制器被配置成基于所述第一装置提供的所述环境条件来控制所述磁头的操作和调整所述系统的操作参数,并且所述控制器还被配置成,较之对处于相对较高操作温度的MAMR元件提供的电流的量,增加对处于较低操作温度的MAMR元件提供的电流的量。

2.根据权利要求1所述的系统,其中所述控制器包括:

被配置成调整所述MAMR元件和所述磁介质之间间隙的逻辑部分;

读取/写入集成电路;和

信号处理通道集成电路。

3.根据权利要求1所述的系统,其中所述控制器还被配置成基于所述环境条件来控制所述微波生成部的注入电流。

4.根据权利要求1所述的系统,其中所述控制器还被配置成基于所述环境条件来控制所述微波生成部的位置,以调整所述微波生成部和所述磁介质之间的间隙。

5.根据权利要求1所述的系统,其中,较之提供给处于较高操作温度的所述微波生成部的电流,所述控制器增加向处于较低操作温度的所述MAMR元件的微波生成部提供的电流。

6.根据权利要求5所述的系统,其中所述较低操作温度是小于约20℃的任何温度。

7.根据权利要求1所述的系统,其中所述第一装置被配置成测量所述系统的重写性能。

8.一种磁记录系统,包括:

第一装置,所述第一装置被配置成测量与磁头的微波协助磁记录MAMR元件和磁介质相关的环境条件,其中所述MAMR元件被配置成协助使用所述磁头的写入元件在所述磁介质上记录,并且其中所述MAMR元件包括微波生成部,所述微波生成部接收用于其操作的电流;和

第二装置,所述第二装置被配置成基于所述第一装置提供的所述环境条件来控制所述磁头的操作并且调整所述磁头的操作参数,并且所述第二装置还被配置成通过向热飞高控制TFC元件提供电流以调整所述微波生成部和所述磁介质之间的间隙,并且基于由所述第一装置测量的所述环境条件至少同时地控制写入电流、向所述MAMR元件提供的电流和向所述TFC元件提供的电流。

9.根据权利要求8所述的系统,其中所述第二装置包括:

读取/写入集成电路;和

信号处理通道集成电路。

10.根据权利要求8所述的系统,其中所述第二装置还被配置成基于所述环境条件来控制所述微波生成部的注入电流。

11.根据权利要求8所述的系统,其中所述第二装置还被配置成基于所述环境条件控制所述微波生成部的位置,以调整所述微波生成部和所述磁介质之间的间隙。

12.根据权利要求8所述的系统,其中由所述第一装置测量的所述环境条件包括温度。

13.根据权利要求8所述的系统,其中,较之提供给处于较高操作温度的所述微波生成部的电流,所述第二装置增加向处于较低操作温度的所述微波生成部提供的电流。

14.根据权利要求13所述的系统,其中所述较低操作温度是小于约20℃的任何温度。

15.根据权利要求8所述的系统,其中所述第一装置还被配置成测量读取元件的再生信号,所述再生信号包括所述系统的重写性能。

16.根据权利要求8所述的系统,其中所述第一装置还被配置成测量所述微波生成部和所述磁介质之间的间隙。

17.根据权利要求8所述的系统,其中所述环境条件至少包括:温度、读取元件的再生信号以及所述MAMR元件和所述磁介质之间的间隙。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于HGST荷兰有限公司,未经HGST荷兰有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210592667.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top