[发明专利]一种具有自清洁功能塑料基材表面的处理方法有效
申请号: | 201210589859.1 | 申请日: | 2012-12-31 |
公开(公告)号: | CN103046003A | 公开(公告)日: | 2013-04-17 |
发明(设计)人: | 张先超;余水;李明仁 | 申请(专利权)人: | 厦门建霖工业有限公司 |
主分类号: | C23C14/20 | 分类号: | C23C14/20;C23C14/02;C23C18/00;B05D7/24 |
代理公司: | 厦门南强之路专利事务所 35200 | 代理人: | 马应森 |
地址: | 361021 福*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 具有 清洁 功能 塑料 基材 表面 处理 方法 | ||
1.一种具有自清洁功能塑料基材表面的处理方法,其特征在于包括以下步骤:
1)对塑料基材表面进行除油处理;
2)对经过步骤1)处理的塑料基材进行喷涂漆层;
3)对经过步骤2)处理的塑料基材进行物理气相沉积等离子体改性后,再进行物理气相沉积金属铬层;
4)对经过步骤3)处理的塑料基材进行常压等离子辉光处理,使其金属铬层表面具有亲水性;
5)对经过步骤4)处理的塑料基材进行液相沉积纳米锐钛矿型的二氧化钛透明薄膜。
2.如权利要求1所述的一种具有自清洁功能塑料基材表面的处理方法,其特征在于在步骤2)中,所述喷涂漆层为紫外光固化漆、聚氨酯漆中的至少一种。
3.如权利要求1所述的一种具有自清洁功能塑料基材表面的处理方法,其特征在于在步骤2)中,所述漆层的厚度为10~30μm。
4.如权利要求1所述的一种具有自清洁功能塑料基材表面的处理方法,其特征在于在步骤3)中,所述物理气相沉积等离子体改性的工艺条件为:离子源电流0.3~0.6A,偏压20~80V,占空比40%~80%,氩气流速10~100SCCM,氧气流速0~150SCCM,时间5~10min,所述物理气相沉积金属铬层的工艺条件可为采用多弧物理气相沉积,电源电流60~100A,沉积时间2~10min,偏压20~80V,占空比40%~80%,氩气流速60~200SCCM;多弧靶材为99.9%铬靶材。
5.如权利要求1所述的一种具有自清洁功能塑料基材表面的处理方法,其特征在于在步骤4)中,所述常压等离子辉光处理的工艺条件为:功率为500~1000W,处理时间为2~6min。
6.如权利要求1所述的一种具有自清洁功能塑料基材表面的处理方法,其特征在于在步骤5)中,所述液相沉积纳米锐钛矿型的二氧化钛透明薄膜的具体方法为:将步骤4)处理后的样品放入液相沉积液中,所述液相沉积液为:氟钛酸氨(NH4)2TiF6 16~25g/L,硼酸H3BO312~18g/L,余量为水;在温度为25℃条件下恒温沉积20~120min后取出清洗干净,于60~120℃温度下烘干后即得具有光致光催化抑菌自清洁的TIO2薄膜。
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