[发明专利]脂环族单体，包含该单体的聚合物以及包含所述聚合物的光致抗蚀剂组合物

权利要求书

1.一种单体，具有式I的结构：

式中R¹,R²和R³各自独立地是C_1-30单价有机基团，R¹,R²和R³各自独立地是未取代的，或包括卤素、腈、醚、酯、酮、醇，或者包括至少一种上述官能团的组合；

R⁴包括H,F,C_1-4烷基或C_1-4氟代烷基；

A是单键或二价连接基团，其中A是未取代的，或被取代而包括卤素、腈、醚、酯、酮、醇，或者包括至少一种上述官能团的组合；

m和n各自独立地为1-8的整数；和

x是0至2n+2，y是0至2m+2。

2.如权利要求1所述的单体，其中R⁴是H、F、甲基或三氟甲基。

3.如权利要求1或2所述的单体，其中R¹,R²和R³各自独立地是C_1-10烷基，C_1-10氟代烷基，C_1-10烷氧基，C_1-10氟代烷氧基，C_1-10链烷醇基，或者包括至少一种上述基团的组合。

4.如权利要求1或2所述的单体，其中R¹,R²和R³各自独立地是H、甲基、乙基、三氟甲基、2,2,2-三氟乙基、2-羟乙基或包括至少一种上述基团的组合。

5.如权利要求1-3中任一项所述的单体，其中m和n独立地是3或4，x和y独立地是0-2的整数。

6.如权利要求1-5中任一项所述的单体，其中R¹是甲基或乙基，m和n各自是3，x和y各自是0。

7.如权利要求1-6中任一项所述的单体，其中A是-O-CH₂(C=O)-。

8.一种聚合物，其包含权利要求1-7中任一项所述的单体。

9.一种光致抗蚀剂组合物，其包含权利要求8所述的聚合物和光致生酸剂。

10.一种涂覆的基材，其包括：(a)基材，其包括位于其表面上的将被图案化的一个层或多个层；和(b)权利要求9所述的光致抗蚀剂组合物层，其位于所述将被图案化的一个层或多个层上。

11.一种图案化的层，所述层通过使用193nm的光化辐照对权利要求10所述的涂覆的基材以图案化方式成像形成。