[发明专利]基板处理装置有效
申请号: | 201210580077.1 | 申请日: | 2012-12-27 |
公开(公告)号: | CN103209578A | 公开(公告)日: | 2013-07-17 |
发明(设计)人: | 佐藤利道;冈田笃史 | 申请(专利权)人: | 雅马哈发动机株式会社 |
主分类号: | H05K13/04 | 分类号: | H05K13/04 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 穆德骏;谢丽娜 |
地址: | 日本静冈*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 处理 装置 | ||
1.一种基板处理装置,其特征在于包括:
头部单元,对基板进行规定的作业;
移动装置,具有导轨和沿着所述导轨移动的滑动部,并且使所述头部单元沿着一轴方向移动;其中,
所述头部单元以该头部单元的至少一部分从所述滑动部的移动方向的端面向外侧突出的状态固定于所述滑动部。
2.根据权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于,
所述移动装置包括:第1移动装置,具备第1滑动部和具有第1端面的第1导轨;第2移动装置,具备第2滑动部和具有第2端面的第2导轨;其中,所述第1移动装置和所述第2移动装置以所述第1端面与所述第2端面相对的方式设置,
由所述第1移动装置移动的所述头部单元以该头部单元的至少一部分从所述第1滑动部的端面向所述第2端面突出的状态固定于所述第1滑动部,
由所述第2移动装置移动的所述头部单元以该头部单元的至少一部分从所述第2滑动部的端面向所述第1端面突出的状态固定于所述第2滑动部。
3.根据权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于还包括:
框架,设置在所述导轨的一端侧且垂直于所述导轨;其中,
所述导轨以与所述框架的侧面交叉的方式延伸。
4.根据权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于还包括:
框架,设置在所述导轨的一端侧且垂直于所述导轨;其中,
所述移动装置呈悬臂状支撑在所述框架上,
所述头部单元以该头部单元的一部分从所述滑动部的与该滑动部的所述框架侧的端面相反侧的端面突出的方式固定于所述滑动部。
5.根据权利要求1~4中的任一项所述的基板处理装置,其特征在于,
所述移动装置包括能在移动限制位置和移动允许位置之间移动的可动限位器,其中,所述移动限制位置是所述可动限位器突出到所述滑动部或所述头部单元的移动区域而限制所述滑动部或所述头部单元的移动的位置,所述移动允许位置是所述可动限位器从所述滑动部及所述头部单元的移动区域退避而允许所述滑动部及所述头部单元的移动的位置。
6.根据权利要求5所述的基板处理装置,其特征在于,
所述可动限位器设置在所述导轨的端部,
当对所述基板的规定作业停止时,所述可动限位器移动到所述移动限制位置并与位于所述导轨的端部的所述滑动部或所述头部单元抵接,从而所述滑动部或所述头部单元被推回所述导轨的中心侧。
7.在权利要求6所述的基板处理装置中,其特征在于,
所述可动限位器具备与所述滑动部或所述头部单元抵接的抵接部,
所述抵接部是随着从所述导轨的中心侧向端侧延伸而向所述滑动部或所述头部单元的移动区域突出的突出尺寸逐渐增加的倾斜面。
8.根据权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于,
所述滑动部能够在其移动方向的端面不从所述导轨的端面突出的范围内沿着所述导轨在该导轨的全长范围移动,
在所述滑动部的移动方向的端面移动到所述导轨的端面位置的状态下,所述头部单元的一部分从所述导轨的端面向外侧突出。
9.根据权利要求8所述的基板处理装置,其特征在于,
所述头部单元具备多个吸嘴,该头部单元的宽度方向的中心位置固定在所述滑动部的端部近傍,
在所述滑动部的移动方向的端面移动到所述导轨的端面位置的状态下,所述头部单元的部分所述吸嘴从所述导轨的端面向外侧突出。
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