[发明专利]一种去除稀硫酸中硅氧烷的装置及方法有效

专利信息
申请号: 201210567249.1 申请日: 2012-12-25
公开(公告)号: CN103011093A 公开(公告)日: 2013-04-03
发明(设计)人: 白丽娜;邱玲 申请(专利权)人: 蓝星化工新材料股份有限公司江西星火有机硅厂
主分类号: C01B17/90 分类号: C01B17/90
代理公司: 南昌新天下专利商标代理有限公司 36115 代理人: 施秀瑾
地址: 330300*** 国省代码: 江西;36
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摘要:
搜索关键词: 一种 去除 硫酸 中硅氧烷 装置 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及化工领域,具体涉及一种去除稀硫酸中硅氧烷的装置及方法。

背景技术

氯甲烷是有机硅生产的重要原料,氯甲烷的合成均采用二甲水解回收的氯化氢与甲醇反应所得,并常常采用浓硫酸进行干燥的,得到符合有机硅单体合成所需质量的氯甲烷;浓硫酸在干燥过程中,吸收氯甲烷中的水份逐渐成为稀硫酸,为降低成本,稀硫酸可用稀硫酸提浓装置对该稀硫酸进行提浓,得到浓硫酸,再用于氯甲烷干燥。但由于合成氯甲烷的氯化氢为二甲水解工序(该工序是将二甲基二氯硅烷水解脱氯,产生大量的HCL,部分经脱吸处理产生HCL气体作为生产氯甲烷的原料)回收所得,含有硅氧烷杂质,使得干燥氯甲烷后得到的稀硫酸也含有硅氧烷等杂质,会造成稀硫酸提浓装置管道、设备堵塞,缩短装置运行周期,而且被硅氧烷污染的管道和设备难以清理干净。在过去国内外专利及文献中,鲜有关于稀硫酸提浓装置原料稀硫酸进行净化处理的报道。

发明内容

本发明的目的是提供一种去除稀硫酸中硅氧烷的装置及方法,其可解决稀硫酸提浓工序中硅氧烷去除问题。

本发明通过下述技术方案实现:

一种去除稀硫酸中硅氧烷的装置,其包括第一净化器、第二净化器、废液收集池、稀硫酸储槽、第一净化器始压表、第二净化器始压表、第一净化器末压表、第二净化器末压表、第一净化器物料进口阀、第二净化器物料进口阀、第一净化器反冲洗阀、第二净化器反冲洗阀、第一净化器滤液出口阀、第二净化器滤液出口阀、第一净化器污物出口阀、第二净化器污物出口阀;第一净化器、第二净化器一端通过管道分别与第一净化器物料进口阀、第二净化器物料进口阀相连,第一净化器、第二净化器顶端分别设有第一净化器始压表、第一净化器末压表、第二净化器始压表、第二净化器末压表,第一净化器、第二净化器底部通过管道分别与第一净化器污物出口阀、第一净化器滤液出口阀、第一净化器反冲洗阀、第二净化器污物出口阀、第二净化器滤液出口阀、第二净化器反冲洗阀相连,第一净化器滤液出口阀、第二净化器滤液出口阀与稀硫酸储槽通过管道相连,第一净化器污物出口阀、第二净化器污物出口阀与废液收集池通过管道相连。

一种去除稀硫酸中硅氧烷的方法,具体工艺步骤为:

来自稀硫酸提浓装置稀硫酸缓冲罐的质量含量60-75%,硅氧烷含量为20000-25000ug/ml的稀硫酸,在0.6-0.7Mpa压力下依次进入第一净化器、第二净化器,开启第一净化器物料进口阀、第二净化器物料进口阀、第一净化器滤液出口阀、第二净化器滤液出口阀,关闭第一净化器污物出口阀、第二净化器污物出口阀、第一净化器反冲洗阀、第二净化器反冲洗阀,过滤好的滤液经管道进入稀硫酸储槽;

其中,第一净化器、第二净化器内设有非对称玻璃纤维膜过滤介质;

反冲洗操作:运行过程中记录第一净化器始压表、第一净化器末压表的压力差,当压力差达到0.4—0.6Mpa时,启动反冲洗系统;采用0.3-0.4Mpa压力的水对第一净化器反冲洗5-15秒,关闭第一净化器物料进口阀、第一净化器滤液出口阀,开启第一净化器污物出口阀、第一净化器反冲洗阀,冲洗的污物经第一净化器污物出口阀排至废液收集池,当第一净化器反冲洗完成,开启第一净化器物料进口阀、第一净化器滤液出口阀,关闭第一净化器污物出口阀、第一净化器反冲洗阀;同理,记录第二净化器始压表和第二净化器末压表的压力差,当压力差达到0.4-0.6Mpa时,启动反冲洗系统,对第二净化器进行反冲洗操作。

本发明通过玻璃纤维膜膜对流体介质进行有效过滤,玻璃纤维膜呈化学惰性,不含粘合剂,采用100%硼硅酸玻璃纤维制造而成,具有毛细纤维结构,能吸附比同等纤维素滤纸更多的水分,流速快,耐高温,其可 去除稀硫酸中的有机硅氧烷杂质,实现过滤功能;同时该发明装置设有反冲洗系统,在净化器内杂质累积发生堵塞时启用,杂质废液从净化器侧面下端排污口流出引入废液收集器。其具有以下优点:采用净化系统对稀硫酸进行净化,去除稀硫酸中的硅氧烷,避免稀硫酸提浓装置管道、设备被硅氧烷污染,造成堵塞;该净化工艺和装置可实现自动化控制,按照设定的参数自行净化和反冲洗,防止内硅氧烷杂质累积而发生堵塞;且该工艺装置日常维护工作量少,运行安全可靠,无需人工清洗净化器且设备安装维修方便,故障率低。

附图说明

图1为本发明的设备结构示意图;

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