[发明专利]一种基于同色异谱效应的金属介质光变防伪薄膜

权利要求书

1.一种基于同色异谱效应的金属介质光变防伪薄膜，其特征在于：包括作为背景的A金属介质反射防伪膜系镀制在所述A金属介质反射防伪膜系上的B金属介质反射防伪膜系，所述A金属介质反射防伪膜系、B金属介质反射防伪膜系分别由膜层结构构成，所述B金属介质反射防伪膜系镀制成文字或图形，其中，A金属介质反射防伪膜系的色度坐标从0度到90度随角度变化呈现逆时针的走向，B金属介质反射防伪膜系的色度坐标从0度到90度随角度变化呈现顺时针的走向，以使A金属介质反射防伪膜系和B金属介质反射防伪膜系在零度入射角时具有相同的色度坐标，在45度入射角时具有较大的色度反差；

所述膜层结构包括依次设置的第一饱和度控制层、第一颜色控制层、反射层、第二颜色控制层以及第二饱和度控制层，所述反射层由金属材料组成，所述第一、第二颜色控制层由分布为高低折射率的介质膜层构成，所述第一、第二饱和度控制层由半透射金属膜层构成。

2.根据权利要求1所述基于同色异谱效应的金属介质光变防伪薄膜，其特征在于：

所述膜层结构的总膜层数为5层或者7层，所述第一、第二颜色控制层包括一层介质膜层或者两层介质膜层。

3.根据权利要求1所述的基于同色异谱效应的金属介质光变防伪薄膜，其特征在于：所述构成反射层的金属材料为铝、金、铜、银中的一种或几种。

4.根据权利要求3所述的基于同色异谱效应的金属介质光变防伪薄膜，其特征在于：所述反射层的厚度在60-200nm之间。

5.根据权利要求1所述的基于同色异谱效应的金属介质光变防伪薄膜，其特征在于：所述介质膜层的材料为具有高低折射率的TiO2、Ta2O5、Nb2O5、ZrO2、SiO2、MgF2、Al2O3中的一种或几种的混合物。

6.根据权利要求1所述的基于同色异谱效应的金属介质光变防伪薄膜，其特征在于：所述半透射金属膜层的材料为镍、铬、或者二者的合金材料。