[发明专利]具有保护格栅的热成像仪

权利要求书

1.一种用于具有光瞳平面的热成像设备的保护外罩，所述热成像设备使用在危险环境中，所述保护外罩包括：

壳体，所述壳体具有近端部、远端部和将所述近端部联接到所述远端部的侧壁；

位于所述壳体内的安装结构，所述安装结构将所述热成像设备固定在所述壳体内的预定位置中，其中，所述侧壁围绕所述热成像设备；

窗口组件，其位于所述壳体的远端部附近，所述窗口组件包括：

用于在所述保护外罩内使红外辐射到达所述热成像设备的窗口提供通道；以及

保护格栅，其位于所述壳体远端部的窗口的一侧上，其中，所述保护格栅在一侧上暴露于环境，并且在相对侧上暴露于所述窗口，所述保护格栅具有相对于所述热成像设备构成的几何形状使得被遮挡光束与投影到光瞳平面上的毗邻的未被遮挡光束的比值保持恒定，藉此在所述热成像设备的视场中提供相对均匀的衰减，所述衰减可以用一个透射率系数补偿。

2.根据权利要求1所述的外罩，其特征在于，

所述保护格栅包括钢。

3.根据权利要求1所述的外罩，其特征在于，

所述窗口包括锗。

4.根据权利要求1所述的外罩，其特征在于，

所述保护格栅包括多个交叉的条，所述交叉的条限定孔图案，其中，所述孔图案具有格栅间距p，并且每个条具有宽度w，其中，所述宽度与间距的比值w/p小于0.25。

5.根据权利要求4所述的外罩，其特征在于，

所述热成像设备包括具有光瞳直径d的透镜，并且所述格栅间距与光瞳直径的比值p/d小于0.6。

6.根据权利要求4所述的外罩，其特征在于，

所述保护格栅具有恒定格栅间距p和恒定的条宽度w。

7.根据权利要求4所述的外罩，其特征在于，

所述条以使其截面轴线朝向所述透镜的光学中心收敛的方式取向。

8.根据权利要求1所述的外罩，其特征在于，

所述均匀性误差小于±4%。

9.根据权利要求8所述的外罩，其特征在于，

所述均匀性误差小于±2%。

10.根据权利要求1所述的外罩，其特征在于，

光瞳中由条遮挡的光束的宽度w相对于光束的毗邻的未被遮挡部分的宽度c的比值应保持恒定，以使平均格栅衰减保持恒定。

11.一种工业监测系统，包括：

热成像设备，其适于与所述系统的远程图像监测中心通信；以及

用于保护所述热成像设备免受危险环境影响的保护外罩，所述保护外罩包括：

具有窗口组件的壳体，所述窗口组件位于所述壳体远端部附近，所述窗口组件包括：

用于在所述保护外罩内使红外辐射到达所述热成像设备的窗口提供通道；以及

保护格栅，其位于所述壳体远端部的窗口的一侧上，其中，所述保护格栅在一侧上暴露于所述环境，并且在相对侧上暴露于所述窗口，所述热成像设备被定位在相对于所述格栅的预定位置的所述外罩内侧，其中，所述保护格栅在所述热成像设备的视场中提供相对均匀的衰减，所述衰减可以用一个透射率系数补偿。

12.根据权利要求11所述的系统，其特征在于，

所述保护格栅包括钢。

13.根据权利要求11所述的系统，其特征在于，

所述窗口包括锗。

14.根据权利要求11所述的系统，其特征在于，

所述保护格栅包括多个交叉的条，所述交叉的条限定孔图案，其中，所述孔图案具有格栅间距p，并且每个条具有宽度w，其中，所述宽度与间距的比值w/p小于0.25。

15.根据权利要求14所述的系统，其特征在于，

所述热成像设备包括具有光瞳直径d的透镜，并且所述格栅间距与光瞳直径的比值p/d小于0.6。

16.根据权利要求14所述的系统，其特征在于，

所述保护格栅具有恒定格栅间距p和恒定的条宽度w。

17.根据权利要求14所述的系统，其特征在于，

所述条以使其截面轴线朝向所述透镜的光学中心收敛的方式取向。