[发明专利]用于在抛光工艺期间再循环泥浆材料的系统

说明书

技术领域

本发明涉及抛光工艺，并且更具体地涉及用于在抛光工艺期间再循环泥浆材料的系统。

背景技术

抛光工艺用于许多不同的应用，从而清洁或完成特定的工件。这一处理包括用于将信息存储在存储装置中的盘形基底的抛光。这些盘形基底能够由磁性介质材料制成，这种材料经配置从而当磁换能器写入该介质时存储信息。

在许多抛光系统中，贵重的泥浆材料容易在排水中损失。在其他抛光系统中，使用泥浆再循环。然而，包含泥浆再循环的常规的抛光系统不起作用或者成本过高。此外，常规的抛光系统不能设计用于再循环特定的材料。因此，需要一种用于在抛光工艺期间再循环泥浆材料的改进系统。

发明内容

本发明的方面涉及用于在抛光工艺期间再循环泥浆材料的系统。在一个实施例中，本发明涉及用于再循环来自抛光组件的预选的泥浆材料的系统，该系统包括抛光组件和再循环组件，其中抛光组件包括具有入口和排水出口的抛光器和泥浆再循环罐，泥浆再循环罐经配置从而将包括预选的材料的泥浆供给到抛光器的入口，再循环组件包括错流过滤器、密度计、阀门和控制器，其中错流过滤器包括经配置从而从抛光器的排水出口接收含有预选材料的废料泥浆的入口，其中错流过滤器经配置从而将在错流过滤器出口处提供的泥浆中的预选的材料浓缩，密度计经配置从而测量错流过滤器的出口泥浆中预选的材料的浓度，阀门被联接到错流过滤器的出口并且经配置从而供给泥浆存储罐，并且控制器被联接到密度计和阀门，其中控制器经配置从而当预选的材料的浓度达到第一预选的浓度阈值时打开阀门。

附图说明

图1是根据本发明的一个实施例的用于再循环来自抛光组件的冲洗水产物的二氧化铈的系统的示意图，该系统包括冷凝器，其具有错流过滤器和第一密度计，用于确保在回到抛光组件之前在再循环泥浆中积累预选浓度的二氧化铈。

图2是根据本发明的一个实施例的图1的冷凝器的详细示意图，其包括错流过滤器和第一密度计，其中错流过滤器用于浓缩冷凝器出口泥浆中的二氧化铈，并且第一密度计用于一旦已经达到预选的二氧化铈浓度阈值则释放该浓缩的出口泥浆。

具体实施方式

现在参考附图，其示出用于再循环来自抛光组件的预选的泥浆材料的系统的实施例。再循环系统包括错流过滤器，其经配置从而从抛光组件接收包括预选材料的废料泥浆。错流过滤器进一步经配置从而浓缩来自废料泥浆的预选材料。该再循环系统进一步包括第一密度计和控制器，其中第一密度计经配置从而测量预选材料的浓度，并且控制器确保在其回到抛光组件之前浓度达到预选阈值。该控制器被联接到一个或更多阀门，并且可能被联接到一个或更多泵，用于控制再循环系统中的泥浆的流动。在一个实施例中，预选阈值大约是百分之十。在其他实施例中，该预选阈值能够大于或者小于百分之十。

在几个实施例中，再循环系统包括第二密度计，其被联接到控制器和抛光组件的再循环罐。在这种情况下，第二密度计经配置从而监视抛光组件中预选材料的浓度。当预选材料的浓度降低到第二预选阈值以下时，控制器能够允许来自再循环系统的具有浓缩的预选材料的泥浆填充再循环罐。以此方式，再循环系统能够有效地收集和再循环来自抛光组件的预选材料。在几个实施例中，该预选材料包括二氧化铈或者另一种稀土氧化物类型材料。在一个这种实施例中，再循环系统能够在来自抛光组件的废料泥浆中聚集高达百分之百的二氧化铈。

图1是根据本发明的一个实施例的用于再循环来自抛光组件（104、106、108）的冲洗水产物102的二氧化铈的系统100的示意图，该系统100包括具有错流过滤器112和第一密度计114的冷凝器110，其用于确保在回到抛光组件（104、106、108）之前预选浓度的二氧化铈在再循环泥浆中积累。对于抛光组件（104、106、108）的操作，抛光器104从再循环罐108接收抛光泥浆，并且经由泵P1或者106再循环一部分抛光泥浆到再循环罐108，其中二氧化铈浓度大约百分之四。抛光器104也将抛光泥浆的废料部分102（例如，冲洗水产物）输出到缓冲管/分离器阀（separator valve）116。

对于系统100的再循环组件部分的操作（例如，系统100中不是抛光组件（104、106、108）的部分的那些部件），缓冲管116能够及时工作从而除去二氧化铈浓度特别低的一些废料泥浆102，而剩余物118（例如，缓冲管泥浆）被提供到冷凝器110。在一个实施例中，通过缓冲管116除去预选的二氧化铈浓度大约为0.5%或者更少的泥浆。