[发明专利]晶圆温度的检测方法有效
申请号: | 201210559673.1 | 申请日: | 2012-12-20 |
公开(公告)号: | CN103050423A | 公开(公告)日: | 2013-04-17 |
发明(设计)人: | 范象泉;张昊 | 申请(专利权)人: | 上海宏力半导体制造有限公司 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 骆苏华 |
地址: | 201203 上海市浦东*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 温度 检测 方法 | ||
1.一种晶圆温度的检测方法,其特征在于,包括:
提供晶圆,在所述晶圆上形成双极型晶体管,双极型晶体管作为温度检测器件,所述双极型晶体管包括位于晶圆内的第一掺杂区、位于第一掺杂区内的第二掺杂区、位于第二掺杂区内的第三掺杂区,其中所述第一掺杂区为双极型晶体管的集电区、第二掺杂区为双极型晶体管的基区、第三掺杂区为双极型晶体管的发射区;
对所述温度检测器件进行校准;
在所述双极型晶体管的基区上依次施加至少三个不同的基区电压,双极型晶体管工作在线性区,并测量获得与至少三个基区电压值对应的至少三个集电区电流值;
根据施加的三个基区电压值和对应的至少三个集电区电流值,进行指数曲线拟合,获得晶圆的至少三个测试温度;
对所述至少三个测试温度求平均值,将平均值作为晶圆的温度。
2.如权利要求1所述的晶圆温度的检测方法,其特征在于,所述拟合的指数曲线方程为:
3.如权利要求2所述的晶圆温度的检测方法,其特征在于,所述Eg等于1.18电子伏,Xti等于3,Trf等于298开尔文。
4.如权利要求3所述的晶圆温度的检测方法,其特征在于,所述对温度检测器件进行校准的过程为:将晶圆加热到不同的三个标准温度,在三个标准温度下,在双极型晶体管的基区上分别施加校准基区电压值,双极型晶体管工作在线性区,并测量获得与三个标准温度对应的三个校准集电区电流值,将校准基区电压值、标准温度和对应的三个校准集电区电流值、Eg等于1.18电子伏、Xti等于3、Trf等于298开尔文分别代入所述指数曲线,获得固定器件常数Is。
5.如权利要求4所述的晶圆温度的检测方法,其特征在于,所述测试温度的范围为220~450开尔文。
6.如权利要求5所述的晶圆温度的检测方法,其特征在于,所述三个标准温度为:高温区温度、中温区温度和低温区温度。
7.如权利要求6所述的晶圆温度的检测方法,其特征在于,所述高温区温度为398开尔文,中温区温度为298开尔文,低温区温度为233开尔文。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海宏力半导体制造有限公司,未经上海宏力半导体制造有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210559673.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种银杏内酯脂质体注射剂
- 下一篇:一种腺病毒抗原临界值质控物的配制方法
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造