[发明专利]晶圆温度的检测方法有效

专利信息
申请号: 201210559673.1 申请日: 2012-12-20
公开(公告)号: CN103050423A 公开(公告)日: 2013-04-17
发明(设计)人: 范象泉;张昊 申请(专利权)人: 上海宏力半导体制造有限公司
主分类号: H01L21/66 分类号: H01L21/66
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 骆苏华
地址: 201203 上海市浦东*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 温度 检测 方法
【权利要求书】:

1.一种晶圆温度的检测方法,其特征在于,包括:

提供晶圆,在所述晶圆上形成双极型晶体管,双极型晶体管作为温度检测器件,所述双极型晶体管包括位于晶圆内的第一掺杂区、位于第一掺杂区内的第二掺杂区、位于第二掺杂区内的第三掺杂区,其中所述第一掺杂区为双极型晶体管的集电区、第二掺杂区为双极型晶体管的基区、第三掺杂区为双极型晶体管的发射区;

对所述温度检测器件进行校准;

在所述双极型晶体管的基区上依次施加至少三个不同的基区电压,双极型晶体管工作在线性区,并测量获得与至少三个基区电压值对应的至少三个集电区电流值;

根据施加的三个基区电压值和对应的至少三个集电区电流值,进行指数曲线拟合,获得晶圆的至少三个测试温度;

对所述至少三个测试温度求平均值,将平均值作为晶圆的温度。

2.如权利要求1所述的晶圆温度的检测方法,其特征在于,所述拟合的指数曲线方程为:Ic=Is×e[Eg×(q/kTrf-q/kT)+Xti×lnT/Trf]×[eqVbe/kT-1],]]>其中,Ic为集电区电流值,Is为固定器件常数,Eg为带隙,q为单位电荷常数,k为玻尔兹曼常数,Trf为参考温度,T为测试温度,Xti为常数,Vbe为发射区接地时的基区电压值。

3.如权利要求2所述的晶圆温度的检测方法,其特征在于,所述Eg等于1.18电子伏,Xti等于3,Trf等于298开尔文。

4.如权利要求3所述的晶圆温度的检测方法,其特征在于,所述对温度检测器件进行校准的过程为:将晶圆加热到不同的三个标准温度,在三个标准温度下,在双极型晶体管的基区上分别施加校准基区电压值,双极型晶体管工作在线性区,并测量获得与三个标准温度对应的三个校准集电区电流值,将校准基区电压值、标准温度和对应的三个校准集电区电流值、Eg等于1.18电子伏、Xti等于3、Trf等于298开尔文分别代入所述指数曲线,获得固定器件常数Is

5.如权利要求4所述的晶圆温度的检测方法,其特征在于,所述测试温度的范围为220~450开尔文。

6.如权利要求5所述的晶圆温度的检测方法,其特征在于,所述三个标准温度为:高温区温度、中温区温度和低温区温度。

7.如权利要求6所述的晶圆温度的检测方法,其特征在于,所述高温区温度为398开尔文,中温区温度为298开尔文,低温区温度为233开尔文。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海宏力半导体制造有限公司,未经上海宏力半导体制造有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210559673.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top