[发明专利]光学试验装置有效

专利信息
申请号: 201210558895.1 申请日: 2012-12-20
公开(公告)号: CN103176115A 公开(公告)日: 2013-06-26
发明(设计)人: 内田练;石川真治;佐藤哲也 申请(专利权)人: 夏普株式会社
主分类号: G01R31/26 分类号: G01R31/26;G01M11/02
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 雒运朴
地址: 日本国大阪府大阪市阿倍野*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 光学 试验装置
【权利要求书】:

1.一种光学试验装置,其特征在于,具有:

在与计测对象的多个发光器件进行电接触而计测光学特性时,用于向该多个发光器件供给电源的多个接触单元;

在该多个接触单元的两侧分别设置、且与该接触单元同样并且用于遮挡来自该发光器件的扩散光的虚拟单元。

2.根据权利要求1所述的光学试验装置,其特征在于,

由固定有所述多个接触单元及其两侧的所述虚拟单元的卡片单元构成。

3.根据权利要求1所述的光学试验装置,其特征在于,

所述虚拟单元,通过遮蔽来自计测对象的区域的两侧末端位置的发光器件的扩散光,进行在所述多个器件间对所述光学特性的计测值进行校正的物理性光学校正。

4.根据权利要求1所述的光学试验装置,其特征在于,

所述接触单元和所述虚拟单元,按照来自其下方的发光器件的扩散光的遮光宽度或遮光面积同等的方式构成。

5.根据权利要求4所述的光学试验装置,其特征在于,

所述接触单元和所述虚拟单元的截面形状被构成为同等尺寸的同等形状。

6.根据权利要求5所述的光学试验装置,其特征在于,

所述接触单元和所述虚拟单元被构成为截面同等直径。

7.根据权利要求1所述的光学试验装置,其特征在于,

以与所述多个接触单元的配置间隔同等的间隔,在该多个接触单元的两侧配置所述虚拟单元。

8.根据权利要求1所述的光学试验装置,其特征在于,

所述接触单元距发光位置的高度和所述虚拟单元距该发光位置的高度被配置成同等的高度。

9.根据权利要求1所述的光学试验装置,其特征在于,

所述接触单元的材质与所述虚拟单元的材质由同等的材质构成。

10.根据权利要求1所述的光学试验装置,其特征在于,

所述接触单元的表面反射特性与所述虚拟单元的表面反射特性被构成为同等的表面反射特性。

11.根据权利要求1所述的光学试验装置,其特征在于,

在所述多个接触单元群的两侧所分别设置的所述虚拟单元的需要数量,根据来自所述发光器件的扩散光的扩散特性决定。

12.根据权利要求1或11所述的光学试验装置,其特征在于,

在所述多个接触单元群的两侧所分别设置的所述虚拟单元的需要数量,根据从所述发光器件的发光位置至所述接触单元的距离决定。

13.根据权利要求1所述的光学试验装置,其特征在于,

所述虚拟单元的前端长度,与所述接触单元的前端长度相比,被缩短至该虚拟单元的前端不会与所述发光器件的电极片接触的高度。

14.根据权利要求1所述的光学试验装置,其特征在于,

所述接触单元是接触探针,所述虚拟单元是虚拟探针。

15.根据权利要求2所述的光学试验装置,其特征在于,

所述多个接触单元是多个接触探针,所述虚拟单元是虚拟探针,所述卡片单元由固定有该多个接触探针及其两侧的该虚拟探针的探针卡构成。

16.根据权利要求1所述的光学试验装置,其特征在于,

按照达到均等的光学特性计测条件的方式,使在所述多个接触单元之中的、中央部的接触单元的表面反射特性被调整得比其两侧的该接触单元的表面反射特性高。

17.根据权利要求1所述的光学试验装置,其特征在于,

按照达到均等的光学特性计测条件的方式,使在所述多个接触单元之中的、中央部的接触单元的遮光程度被调整得比其两侧的该接触单元的遮光程度小。

18.根据权利要求1所述的光学试验装置,其特征在于,

所述多个接触单元及其两侧的所述虚拟单元,分别朝向所述发光器件的两电极片而从该发光器件的两侧、相对于该多个发光器件的排列方向在俯视下正交或具有规定角度地排列。

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