[发明专利]一种抗菌无纺布的制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及无纺布技术领域，具体地说是一种抗菌无纺布的制备方法。

背景技术

近年来随着人们生活水平的不断提高和产业用纺织品向日常生活领域的拓展，无纺布事业发展迅速，广泛应用于服装及鞋、家庭日用、医疗及卫生、土木建筑、汽车工业、农业、园艺等行业。但是由于现有的无纺布一般采用普通纤维制成，缺乏良好的抗菌性能，不能满足使用需求。

发明内容

本发明的目的是克服现有技术的不足，设计一种抗菌无纺布的制备方法。

为实现上述目的，本发明采用如下处理步骤：（1）通过紫外光辐照处理、过硫酸盐处理、低温等离子体处理中的一种或几种方法对无纺布进行表面活化处理，在无纺布表面引入羟基、氨基、环氧活性官能团，（2）将经过上述步骤处理的无纺布浸渍在含有壳聚糖的醋酸溶液中，得到抗菌无纺布，其中：醋酸溶液中醋酸的浓度为0.004g/ml，壳聚糖的浓度为0.002~0.004g/ml，壳聚糖的重均分子量为70~90万。

无纺布为聚乙烯纤维或聚丙烯纤维，其重均分子量为20万~100万。

无纺布中有至少60%的壳聚糖与活性官能团之间成键。

紫外光辐照处理的紫外光波长为300nm以下，辐射光源的功率为10W~3000W，辐照时间为10s~1800s。

过硫酸盐为过硫酸钾、过硫酸钠、过一硫酸氢钾复合盐、过硫酸铵中的一种或几种；过硫酸盐的浓度为0.01~0.8g/ml。

低温等离子体处理的介质阻挡放电的能量密度为0.2mJ/cm²~0.5mJ/cm²，处理功率50W~150W，处理时间为15s~100s，处理环境为空气环境，处理气压为10Pa~20Pa。

低温等离子体使用的低温等离子设备名称为常压准辉光通道等离子体设备。

本发明同现有技术相比，通过紫外光辐照处理、过硫酸盐处理、低温等离子体处理中的一种或几种方法对无纺布进行了表面活性处理后，将其浸渍在含有壳聚糖的醋酸溶液中，使无纺布具有优异的抗菌性，可满足多种需求。

具体实施方式

本发明用如下处理步骤：（1）通过紫外光辐照处理、过硫酸盐处理、低温等离子体处理中的一种或几种方法对无纺布进行表面活化处理，在无纺布表面引入羟基、氨基、环氧活性官能团，（2）将经过上述步骤处理的无纺布浸渍在含有壳聚糖的醋酸溶液中，得到抗菌无纺布，其中：醋酸溶液中醋酸的浓度为0.004g/ml，壳聚糖的浓度为0.002~0.004g/ml，壳聚糖的重均分子量为70~90万。

无纺布为聚乙烯纤维或聚丙烯纤维，其重均分子量为20万~100万。

无纺布中有至少60%的壳聚糖与活性官能团之间成键。

紫外光辐照处理的紫外光波长为300nm以下，辐射光源的功率为10W~3000W，辐照时间为10s~1800s。

过硫酸盐为过硫酸钾、过硫酸钠、过一硫酸氢钾复合盐、过硫酸铵中的一种或几种，过硫酸盐的浓度为0.01~0.8g/ml。

低温等离子体使用的低温等离子设备名称为常压准辉光通道等离子体设备，低温等离子体处理的介质阻挡放电的能量密度为0.2mJ/cm²~0.5mJ/cm²，处理功率50W~150W，处理时间为15s~100s，处理环境为空气环境，处理气压为10Pa~20Pa。

实施例一

采用紫外光对无纺布进行紫外光辐照处理后，将无纺布浸渍在含壳聚糖的醋酸溶液中；其中壳聚糖的浓度为0.004g/ml，紫外光波长280nm，辐射光源功率2000W，辐照时间1800s，浸渍时间30分钟。

实施例二

将无纺布浸渍在浓度为0.5g/ml的过硫酸盐中后，放入无氧设备中加热，再将处理后的无纺布浸渍在壳聚糖浓度为0.004g/ml的醋酸溶液中，其中加热时间30分钟，加热温度80℃，浸渍时间30分钟。

实施例三

采用常压准辉光通道等离子体设备对无纺布进行低温等离子处理后，再将处理后的无纺布浸渍在壳聚糖浓度为0.004g/ml的醋酸溶液中，其中等离子体处理的介质阻挡放电的能量密度为0.5mJ/cm²，处理功率100W，处理时间为60s，处理环境为空气环境，处理气压为10Pa。

本发明通过紫外光辐照处理、过硫酸盐处理、低温等离子体处理中的一种或几种方法对无纺布进行了表面活性处理后，将其浸渍在含有壳聚糖的醋酸溶液中，使无纺布具有优异的抗菌性，可满足多种需求。