[发明专利]偏光膜的制造方法有效
| 申请号： | 201210536281.3 | 申请日： | 2012-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN103163583A | 公开（公告）日： | 2013-06-19 |
| 发明（设计）人： | 森智博;宫武稔;上条卓史;后藤周作;喜多川丈治 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02B1/10 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 偏光 制造 方法 | ||
1.一种偏光膜的制造方法，包括：
在具有7%以下的结晶度的热塑性树脂基材上形成聚乙烯醇类树脂层从而生产层压体；以及
使所述层压体进行湿式处理，其后用加热辊进行干燥处理。
2.根据权利要求1所述的偏光膜的制造方法，其中所述热塑性树脂基材包括聚对苯二甲酸乙二醇酯类树脂。
3.根据权利要求2所述的偏光膜的制造方法，其中所述聚对苯二甲酸乙二醇酯类树脂具有间苯二甲酸单元。
4.根据权利要求3所述的偏光膜的制造方法，其中相对于所有重复单元的总和，所述间苯二甲酸单元的含量比为0.1mol%以上至20mol%以下。
5.根据权利要求1所述的偏光膜的制造方法，其中所述加热辊具有50℃以上的温度。
6.根据权利要求1所述的偏光膜的制造方法，其中所述加热辊具有80℃以上的温度。
7.根据权利要求1所述的偏光膜的制造方法，其中所述热塑性树脂基材在所述干燥处理后具有15%以上的结晶度。
8.根据权利要求1所述的偏光膜的制造方法，其中所述热塑性树脂基材在所述干燥处理后具有20%以上的结晶度。
9.根据权利要求1所述的偏光膜的制造方法，其中所述热塑性树脂基材的结晶度通过所述干燥处理提高了2%以上。
10.根据权利要求1所述的偏光膜的制造方法，其中所述湿式处理包括通过使所述层压体浸渍在硼酸水溶液中而进行的拉伸处理。
11.一种偏光膜，其通过根据权利要求1所述的偏光膜的制造方法而获得。
12.一种光学层压体，其包括根据权利要求11所述的偏光膜。
13.根据权利要求12所述的光学层压体，其进一步包括所述热塑性树脂基材。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日东电工株式会社，未经日东电工株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210536281.3/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种红豆凉皮
- 下一篇：一种改性塑料及其制备方法
