[发明专利]显影喷涂设备及喷涂方法

说明书

技术领域

本发明涉及显示面板制造领域，尤其设计一种显影喷涂设备及喷涂方法。

背景技术

在薄膜晶体管液晶显示器的制备工艺中，通常采用半曝光的方式对光刻胶进行曝光，然后经过显影和刻蚀，最终在防静电区和像素区形成TFT（薄膜场效应晶体管）的源极、漏极和沟道。在整个Panel（面板）的布局中，像素区的走线较为稀疏，而扇出区（Fanout区）和Pad区的走线很稠密，显影时扇出区（Fanout区）和数据端子区（Pad区）要显影掉的光刻胶比像素区要少的多。如图1所示，在喷涂显影液时，显影液是垂直喷下，在玻璃基板前进过程中，显影液相对玻璃基板基本是静止的，所以就导致扇出区（Fanout区）和数据端子区（Pad区）附近的显影液浓度较像素区要高一些，这些区域附近的防静电区TFT和像素TFT上方涂布的光刻胶容易被过显影，导致沟道中光刻胶厚度偏薄或者断开，刻蚀后导致TFT的开关特性丧失。同时，位于Fanout区和Pad区的信号线的线宽均一性也会受显影浓度的影响而与像素区有差异。

发明内容

为了解决上述技术问题，本发明提供一种显影喷涂设备及喷涂方法，使基板不同区域的显影液浓度趋向均一。

本发明一方面提供一种显影喷涂设备，用于为基板喷涂显影液，包括：

至少一个第一喷头，用于沿第一方向朝所述基板喷涂显影液；

至少一个第二喷头，用于沿第二方向朝所述基板喷涂显影液，其中所述第一方向与所述第二方向不同。

优选地，上述所述的显影喷涂设备，所述第一方向与所述第二方向之间的夹角小于90度。

优选地，上述所述的显影喷涂设备，所述基板相对于所述第一喷头和所述第二喷头朝第三方向移动，所述第一方向相对于所述第三方向垂直，所述第二喷头沿所述第三方向设置于所述第一喷头的一侧。

优选地，上述所述的显影喷涂设备，所述第一方向垂直于所述基板，所述第三方向平行于所述基板。

优选地，上述所述的显影喷涂设备，所述第一喷头为两个，两个所述第一喷头相互平行，且两个所述第一喷头喷出显影液的方向为所述第一方向。

优选地，上述所述的显影喷涂设备，所述第二喷头相对于所述第一喷头和所述基板倾斜设置，且所述第二喷头的喷嘴方向为朝所述第二方向。

优选地，上述所述的显影喷涂设备，所述第二喷头平行于所述第一喷头设置，且所述第二喷头的喷嘴方向为朝所述第二方向。

优选地，上述所述的显影喷涂设备，所述第一喷头和所述第二喷头的喷涂范围至少与所述基板的宽度相等。

本发明另一方面还提供一种使用上述显影喷涂设备的喷涂方法，包括步骤：

至少一个第一喷头沿第一方向朝基板喷涂显影液，同时至少一个第二喷头沿第二方向朝所述基板喷涂显影液。

本发明具体实施例上述技术方案中的至少一个具有以下有益效果：

所述显影喷涂设备沿不同方向朝玻璃基板喷涂显影液，相对于现有技术显影液相对玻璃基板静止，本发明所述显影喷涂设备使得显影液在玻璃基板上具有不同流动方向，增强了显影液在不同方向上的流动性，从而达到玻璃基板不同区域的显影液浓度均一的效果，避免了扇出区和Pad区显影浓度偏高而导致附近的防静电区TFT和像素TFT沟道断开以及线宽不均一的问题。

附图说明

图1表示现有技术的一种显影喷涂方式的示意图；

图2表示本发明显影喷涂的第一种实施方式示意图；

图3表示本发明显影喷涂的第二种实施方式示意图；

图4表示本发明显影喷涂的第二种实施方式中第二喷头结构示意图。

具体实施方式

为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例对本发明进行详细描述。

本发明提供一种显影喷涂设备，用于为基板喷涂显影液，包括：

至少一个第一喷头，用于沿第一方向朝所述基板喷涂显影液；

至少一个第二喷头，用于沿第二方向朝所述基板喷涂显影液，其中所述第一方向与所述第二方向不同。

通过本发明具体实施例所述显影喷涂设备，沿不同方向朝基板喷涂显影液，相对于现有技术显影液相对基板静止，本发明所述显影喷涂设备使得显影液在基板上具有不同流动方向，从而达到基板不同区域的显影液浓度均一的效果。

优选地，所述第一方向与所述第二方向之间的夹角小于90度，且所述基板相对于所述第一喷头和所述第二喷头朝第三方向移动，所述第一方向相对于所述第三方向垂直。