[发明专利]用于微电子装置中接合的掺杂4N铜线无效
申请号: | 201210511150.X | 申请日: | 2012-12-03 |
公开(公告)号: | CN103151091A | 公开(公告)日: | 2013-06-12 |
发明(设计)人: | 穆拉利·萨兰加帕尼;杨平熹;欧根·米尔克 | 申请(专利权)人: | 贺利氏材料科技公司 |
主分类号: | H01B1/02 | 分类号: | H01B1/02 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 张世俊 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 微电子 装置 接合 掺杂 铜线 | ||
1.一种用于微电子学中接合的掺杂4N铜线,其包含Ag、Ni、Pd、Au、Pt和Cr的群组中的一者或一者以上作为耐腐蚀性掺杂材料,其中所述耐腐蚀性掺杂材料的浓度在约10wt.ppm与约80wt.ppm之间。
2.根据权利要求1所述的掺杂4N铜线,其中所述耐腐蚀性掺杂材料包含约10wt.ppm到约80wt.ppm的Ag。
3.根据权利要求1所述的掺杂4N铜线,其中所述耐腐蚀性掺杂材料包含约10wt.ppm到约80wt.ppm的Ni。
4.根据权利要求1所述的掺杂4N铜线,其中所述耐腐蚀性掺杂材料包含约10wt.ppm到约80wt.ppm的Au。
5.根据权利要求1所述的掺杂4N铜线,其中所述耐腐蚀性掺杂材料包含约10wt.ppm到约80wt.ppm的Cr。
6.根据权利要求1所述的掺杂4N铜线,其中所述耐腐蚀性掺杂材料包含约10wt.ppm到约40wt.ppm的Ag和约10wt.ppm到约40wt.ppm的Ni。
7.根据权利要求1所述的掺杂4N铜线,其中所述耐腐蚀性掺杂材料包含约10wt.ppm到约40wt.ppm的Ag和约10wt.ppm到约40wt.ppm的Cr。
8.根据权利要求1所述的掺杂4N铜线,其中所述耐腐蚀性掺杂材料包含约5wt.ppm到约30wt.ppm的Ag、约5wt.ppm到约25wt.ppm的Ni和约5wt.ppm到约25wt.ppm的Pd。
9.根据权利要求1所述的掺杂4N铜线,其中所述耐腐蚀性掺杂材料包含约5wt.ppm到约10wt.ppm的Ag、约5wt.ppm到约10wt.ppm的Ni和约5wt.ppm到约10wt.ppm的Pd。
10.根据权利要求1所述的掺杂4N铜线,其中所述耐腐蚀性掺杂材料包含约5wt.ppm到约25wt.ppm的Ag、约5wt.ppm到约25wt.ppm的Ni和约5wt.ppm到约15wt.ppm的Pd。
11.根据权利要求1所述的掺杂4N铜线,其中所述耐腐蚀性掺杂材料包含约5wt.ppm到约35wt.ppm的Ag、约5wt.ppm到约10wt.ppm的Ni和约5wt.ppm到约10wt.ppm的Pd。
12.根据权利要求1所述的掺杂4N铜线,其中所述耐腐蚀性掺杂材料包含约5wt.ppm到约30wt.ppm的Ag和约5wt.ppm到约30wt.ppm的Ni。
13.根据权利要求1所述的掺杂4N铜线,其中所述耐腐蚀性掺杂材料包含约5wt.ppm到约30wt.ppm的Ag和约5wt.ppm到约30wt.ppm的Pd。
14.根据权利要求12所述的掺杂4N铜线,其进一步包含约5wt.ppm到约20wt.ppm的B。
15.根据权利要求13所述的掺杂4N铜线,其进一步包含约5wt.ppm到约20wt.ppm的B。
16.根据权利要求1到15中任一权利要求所述的掺杂4N铜线,其进一步包含约1wt.ppm到约3wt.ppm的S。
17.一种用于微电子学中接合的掺杂4N铜线,其由以下组成:
4N铜;
Ag、Ni、Pd、Au、Pt和Cr的群组中的一者或一者以上,作为耐腐蚀性掺杂材料,其中所述耐腐蚀性掺杂材料的浓度在约10wt.ppm与约80wt.ppm之间,和
可能或可能不存在的另一种组分,所述另一种组分选自B和S中的一者或一者以上。
18.根据权利要求17所述的掺杂4N铜线,其中所述耐腐蚀性掺杂材料是约10wt.ppm 到约80wt.ppm的Ag。
19.根据权利要求17所述的掺杂4N铜线,其中所述耐腐蚀性掺杂材料是约10wt.ppm到约80wt.ppm的Ni。
20.根据权利要求17所述的掺杂4N铜线,其中所述耐腐蚀性掺杂材料是约10wt.ppm到约80wt.ppm的Au。
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