[发明专利]弥漫式恒压气体携带杂质源扩散工艺管有效
| 申请号： | 201210506800.1 | 申请日： | 2012-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN102945796A | 公开（公告）日： | 2013-02-27 |
| 发明（设计）人： | 王正鸣;刘东 | 申请（专利权）人： | 西安电力电子技术研究所 |
| 主分类号： | H01L21/223 | 分类号： | H01L21/223;C30B31/16 |
| 代理公司： | 西安文盛专利代理有限公司 61100 | 代理人： | 彭冬英 |
| 地址： | 710061 *** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 弥漫 压气 携带 杂质 扩散 工艺 | ||
1.一种弥漫式恒压气体携带杂质源扩散工艺管，包括管身和管口盖（4），其特征在于：管身包括外套（1）、内衬（2）和舟撑（3），外套（1）内设有内衬（2），外套（1）与内衬（2）之间为夹层（6），外套（1）尾端设有锥形石英管（18），锥形石英管（18）顶部设有中央排气管（9）串接气体流量计（10）通往排风道，锥形石英管（18）底部两端设有通源管（5）与外套（1）与内衬（2）之间的夹层（6）连通，通源管（5）连接通源枪（19），内衬（2）壁上恒温区段（7）设有弥漫孔（8）连接夹层（6）与内衬（2）内的腔体，内衬（2）内设有舟撑（3），舟撑（3）上设有载片舟（14）和芯片（13），管口盖（4）中央设有排气管（11）串接气体流量计（10）通往排风道，管口盖（4）中空夹层内设有隔热棉（16），管口盖（4）外设有机械加压臂（17），管口盖（4）密封管身端部。
2.如权利要求1所述的弥漫式恒压气体携带杂质源扩散工艺管，其特征在于：相对舟铲进入方向舟撑（3）支撑腿间距大于舟铲宽度，载片舟（14）底部与内衬（2）之间最小距离大于舟铲厚度。
3.如权利要求1所述的弥漫式恒压气体携带杂质源扩散工艺管，其特征在于：所述的管尾排气管（9）串接的气体流量计（10）与管口排气管（11）串接的气体流量计（12）在扩散过程中二者流量相等，且二者流量之和等于进气流量。
4.如权利要求1所述的弥漫式恒压气体携带杂质源扩散工艺管，其特征在于：弥漫孔（8）由管尾方向向管口方向排列，其孔径为1.0～1.75mm，中心距70～40mm，其间孔径和孔中心距均匀分布过度。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
