[发明专利]冗余金属图案形成方法在审
申请号: | 201210476464.0 | 申请日: | 2012-11-21 |
公开(公告)号: | CN103838887A | 公开(公告)日: | 2014-06-04 |
发明(设计)人: | 范忠;吕冬琴;李雪;张立夫 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | G06F17/50 | 分类号: | G06F17/50 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 骆苏华 |
地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 冗余 金属 图案 形成 方法 | ||
1.一种冗余金属图案填充的方法,其特征在于,包括:
提供待填充的版图,所述版图具有关键路径和非关键路径;
将待填充的版图进行网格化处理,使得待填充的版图分成等大小的网格,所述关键路径对应的网格区域为第一区域,除了所述第一区域以外的网格区域为第二区域;
利用第一冗余金属图案将第一区域内网格的版图金属密度调整至大于或等于版图金属密度的下限值;
利用第二冗余金属图案对第二区域内网格的版图金属密度进行调整,使得所述第二区域内网格的版图金属密度都向版图金属密度的最优值逼近,且相邻网格之间的版图金属密度差小于预设的相邻网格版图金属密度波动最大值。
2.如权利要求1所述的冗余金属图案形成方法,其特征在于,所述第一区域的网格内第一冗余金属图案为若干平行的长方形,所述长方形长边所在的方向与关键路径相交或垂直。
3.如权利要求1所述的冗余金属图案形成方法,其特征在于,所述第二区域的网格内第二冗余金属图案的形状为长方形,所述长方形的长边所在的方向与第二区域内最靠近的非关键路径平行。
4.如权利要求1所述的冗余金属图案形成方法,其特征在于,所述第一冗余金属图案、第二冗余金属图案的形状为长方形、正方形、菱形、三角形、L形、T形或十字形。
5.如权利要求1所述的冗余金属图案形成方法,其特征在于,利用设计规则检测装置依次对每一个网格内的版图进行版图金属密度检测,当所述网格位于第一区域且对应的版图金属密度小于版图金属密度的下限值时,利用第一冗余金属图案将对应网格的版图金属密度提高到版图金属密度的下限值;当所述网格位于第二区域且对应的版图金属密度小于版图金属密度的最优值时,利用第二冗余金属图案将对应网格的版图金属密度提高到版图金属密度的最优值。
6.如权利要求1所述的冗余金属图案形成方法,其特征在于,所述第一区域为具有关键路径的网格。
7.如权利要求1所述的冗余金属图案形成方法,其特征在于,所述第一区域为具有关键路径的网格及与具有关键路径的网格相邻的网格。
8.如权利要求1所述的冗余金属图案形成方法,其特征在于,所述版图金属密度的下限值范围为10%~30%。
9.如权利要求1所述的冗余金属图案形成方法,其特征在于,所述版图金属密度的最优值范围为30%~60%。
10.如权利要求1所述的冗余金属图案形成方法,其特征在于,所述相邻网格版图金属密度波动最大值的范围为30%~50%。
11.如权利要求1所述的冗余金属图案形成方法,其特征在于,所述关键路径为从输入端到输出端,总延迟大于预定延迟时间的路径。
12.如权利要求1所述的冗余金属图案形成方法,其特征在于,所述非关键路径为从输入端到输出端,总延迟小于或等于预定延迟时间的路径。
13.如权利要求1所述的冗余金属图案形成方法,其特征在于,所述关键路径包括时钟线、信号线、输入总线和输出总线。
14.如权利要求1所述的冗余金属图案形成方法,其特征在于,先利用第一冗余金属图案将第一区域内网格的版图金属密度进行调整,再利用第二冗余金属图案将第二区域内网格的版图金属密度进行调整。
15.如权利要求1所述的冗余金属图案形成方法,其特征在于,先利用第二冗余金属图案将第二区域内网格的版图金属密度进行调整,再利用第一冗余金属图案将第一区域内网格的版图金属密度进行调整。
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