[发明专利]掩模拉伸装置、掩模片以及包括这些的掩模制造系统

说明书

技术领域

本发明涉及掩模制造系统，尤其涉及应用于有机发光显示装置的制造中的气相沉积掩模的掩模拉伸装置、掩模片以及包括这些的掩模制造系统。

背景技术

有机发光显示装置包括两个电极和设置在两个电极之间的有机发光层，从一个电极注入的电子(electron)和从另一个电极注入的空穴(hole)在有机发光部件结合而形成激子，该激子(exciton)释放能量的同时发光。

为了形成这种有机发光层，需要将有机物气相沉积到基板之上。为此，对于装填有有机物的气相沉积源进行加热而使有机物蒸发并喷射到基板之上。此时，使用在预定部位形成开口部而实现气相沉积，而剩余的部位通过由金属材质形成的遮断部进行遮掩的气相沉积掩模，以使蒸发并喷射的有机物气相沉积为预定图案。这种气相沉积掩模根据制造方法区分为母板方式的母掩模和分割方式的分割掩模。母板方式是利用设置在母掩模制造装置的上下左右的夹具对母掩模片施加四个方向的拉伸力之后，将母掩模片熔接到掩模框架而制造气相沉积掩模的方法，分割方式是利用设置在分割掩模制造装置的两端的夹具对被分割为单元格单位的分割掩模的两端部沿两端方向施加拉伸力之后，将分割掩模片熔接到掩模框架而制造气相沉积模的方法。

尤其分割方式由于可以选别出合格品使用，且维修容易，因此主要适用于批量生产。但是，由于现有的分割掩模通过夹具夹住分割掩模片的两端部并在掩模片两端部沿掩模片的延伸方向施加拉伸力，因此夹具和拉伸力施加装置位于掩模框架的两侧，根据掩模框架的大小，夹具和拉伸力施加装置占据较大的空间。

尤其，近年来随着掩模框架的大小变大，结合分割掩模片的掩模框架形成为包含多个开口，因而当需要在各个开口结合多个分割掩模片时，在掩模框架的两端部设置夹具和拉伸力施加装置的状态下，存在夹具难以夹住分割掩模片的问题。

发明内容

本发明是为了解决前述背景技术的问题而提出的，提供一种能够节省用于拉伸掩模片的夹具和拉伸力施加装置的设置空间的掩模拉伸装置、掩模片以及包括这些的掩模制造系统。

而且，本发明提供一种能够在包含多个开口的掩模框架上容易地结合掩模片的掩模拉伸装置、掩模片以及包括这些的掩模制造系统。

根据本发明的一实施例，提供一种掩模拉伸装置，包括：夹具，支撑布置于掩模框架上的掩模片，以将所述掩模片结合到所述掩模框架上；拉伸机构，连接于所述夹具，朝所述夹具施加拉伸力，以将通过所述夹具固定的所述掩模片固定于所述掩模框架，其中，所述夹具沿与所述掩模片的延伸方向垂直或倾斜的方向排列而支撑所述掩模片。

此时，所述夹具可结合于形成在所述掩模片的端部的突出部。

此时，所述掩模片的突出部可形成于所述掩模片的四个拐角上。

此时，所述拉伸机构可沿所述掩模片的延伸方向对所述掩模片施加拉伸力，或者可沿与所述掩模片的延伸方向垂直或倾斜的方向对所述掩模片施加拉伸力。

此时，还可以包括朝所述掩模框架侧对所述掩模片施压的施压部件。

此时，所述施压部件可形成为一对，以对所述掩模片的两端部施压。

此时，所述施压部件可包括对所述掩模片施压的施压面为四方形的块或所述施压面为曲面的辊子。

根据本发明的另一实施例，提供一种有机发光显示装置用掩模片，该掩模片熔接结合于有机发光显示装置用掩模框架上，且端部形成有能够结合夹具的突出部。

此时，所述突出部可形成于所述掩模片的四个拐角上。

根据本发明的又一实施例，提供一种掩模制造系统，包括掩模框架；布置于所述掩模框架上的掩模片；掩模拉伸装置；将所述掩模片结合于所述掩模框架上的结合装置，其中，所述掩模拉伸装置包括：夹具，支撑所述掩模片，以将所述掩膜片结合到所述掩模框架上；拉伸机构，连接于所述夹具，朝所述夹具施加拉伸力，以将通过所述夹具固定的所述掩模片固定于所述掩模框架，其中，所述夹具沿与所述掩模片的延伸方向垂直或倾斜的方向排列而支撑所述掩模片。

此时，所述夹具可结合于形成在所述掩模片的端部的突出部。

此时，所述掩模片的突出部可形成于所述掩模片的四个拐角上。

此时，所述拉伸机构可沿所述掩模片的延伸方向对所述掩模片施加拉伸力，或者可沿与所述掩模片的延伸方向垂直或倾斜的方向对所述掩模片施加拉伸力。

此时，还可以包括朝所述掩模框架侧对所述掩模片施压的施压部件。

此时，所述施压部件可形成为一对，以对所述掩模片的两端部施压。

此时，所述施压部件可包括对所述掩模片施压的施压面为四方形的块或所述施压面为曲面的辊子。