[发明专利]一种场发射平面光源及其制备方法

权利要求书

1.一种场发射平面光源，包括阳极板、隔离体和阴极板，所述阳极板与阴极板通过隔离体隔开相对设置，三者形成一长方体密闭收容空间，所述阳极板包括阳极基板和阳极，所述阴极板包括阴极基板和阴极，所述阳极和所述阴极收容在所述密闭收容空间内，其特征在于，所述隔离体平行于所述阳极板方向的截面为环状的正方形，所述隔离体包括四个环绕封接的条形状隔离子体，所述隔离子体朝向和背离收容空间的侧面设置有凸起或凹槽，所述凸起或凹槽沿所述隔离子体的延伸方向延伸。

2.如权利要求1所述的场发射平面光源，其特征在于，所述凸起为三角形凸起或弧形凸起，所述凹槽为三角形凹槽或弧形凹槽。

3.如权利要求2所述的场发射平面光源，其特征在于，所述凸起为正三角形凸起或半圆凸起，所述凹槽为正三角形凹槽或半圆凹槽。

4.如权利要求1所述的场发射平面光源，其特征在于，所述隔离子体垂直于所述阳极板方向的高度为1mm，所述隔离子体平行于所述阳极板方向的延伸长度为80mm，所述隔离子体垂直于所述阳极板方向的截面的宽度为5mm。

5.如权利要求1所述的场发射平面光源，其特征在于，所述隔离子体的材质为陶瓷、玻璃或碳化硼。

6.如权利要求1所述的场发射平面光源，其特征在于，所述阳极包括阳极电极、金属反射层和发光层；所述阳极电极形成于所述阳极基板上，所述金属反射层形成于所述阳极电极上，所述发光层形成于所述金属反射层上。

7.如权利要求6所述的场发射平面光源，其特征在于，所述阳极基板为玻璃或陶瓷材质，所述金属反射层为铝层，所述发光层为可激发出波长为420nm~480nm蓝光的荧光粉层。

8.如权利要求1所述的场发射平面光源，其特征在于，所述阴极包括导电层和设置在导电层上的发射体。

9.如权利要求8所述的场发射平面光源，其特征在于，所述阴极基板为玻璃或陶瓷材质，所述导电层的材质为金属，所述发射体为氧化锌纳米棒或碳纳米管。

10.一种如权利要求1~9任一项所述的场发射平面光源的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

在洁净的阳极基板上采用磁控溅射法制备阳极电极，然后在该阳极电极表面制备金属反射层，随后在该金属反射层上制备发光层，得到阳极板；

在洁净的阴极基板上设置导电层，再采用直接生长或涂覆的方式制备发射体，得到阴极板；

将四个条形状隔离子体环绕封接形成一具有长方体收容空间的隔离体，将该隔离体用低玻粉固定在阳极板上，再将阴极板相对固定在隔离体上，密封，并对封装好的场发射平面光源的器件内抽真空。