[发明专利]一种离子注入系统中束流均匀性调节装置

权利要求书

1.一种离子注入系统中束流均匀性调节装置，包括：束线通路(1)、线圈上、下侧盖板(2)和(8)、多极线圈小磁极(3)、多极线圈(4)、上、下底板(5)和(9)、冷却管道(6)、接线端子(7)，其特征在于：调节装置上下对称布置在束线通路(1)两侧。

2.如权利要求1所述的一种离子注入系统中束流均匀性调节装置，其特征在于：上下对称布置12组多极线圈小磁极(3)和多极线圈(4)，每组多极线圈小磁极(3)和多极线圈(4)按一定角度、距离分布。

3.如权利要求1所述的一种离子注入系统中束流均匀性调节装置，其特征在于：上下对称布置12组多极线圈(4)，由12个电源分别单独供电。

4.如权利要求1所述的一种离子注入系统中束流均匀性调节装置，其特征在于：上下对称布置的一组多极线圈(4)由同一电源供电，串联连接；此供电方式可任选并联连接、独立电源单独供电等形式。

5.如权利要求1所述的一种离子注入系统中束流均匀性调节装置，其特征在于：下对称布置12组多极线圈小磁极(3)和多极线圈(4)分别由上、下底板(5)和(9)定位安装。

6.如权利要求1所述的一种离子注入系统中束流均匀性调节装置，其特征在于：上、下底板(5)和(9)上分别装有冷却管道(6)。