[发明专利]一种铈基抛光粉的制备工艺有效
| 申请号： | 201210441396.4 | 申请日： | 2012-11-07 |
| 公开（公告）号： | CN103805067A | 公开（公告）日： | 2014-05-21 |
| 发明（设计）人： | 于瀛;黄小卫;龙志奇;王良士;崔梅生;侯永可;赵娜 | 申请（专利权）人： | 有研稀土新材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 | 代理人： | 程凤儒 |
| 地址： | 100088 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 抛光 制备 工艺 | ||
1.一种铈基抛光粉的制备工艺，其特征在于，包括以下步骤：
(1)以碳酸氢镁水溶液和/或碳酸氢钙水溶液为沉淀剂，将沉淀剂和含有铈离子的盐溶液混合均匀得到浆液；
(2)将步骤(1)的浆液在30℃～90℃下保温陈化0.5～48h；过滤、干燥后得到抛光粉的前驱体粉体；
(3)将前驱体粉体在600℃～1100℃下灼烧，得到的粉体经过分散、分选后处理，得到铈基抛光粉产品。
2.根据权利要求1所述的铈基抛光粉的制备工艺，其特征在于，在所述步骤(1)或步骤(2)的过程中加入氟化物。
3.根据权利要求2所述的铈基抛光粉的制备工艺，其特征在于，所述氟化物为氟化铵、氢氟酸、氟硅酸铵和氟化钠中的至少一种。
4.根据权利要求1所述的铈基抛光粉的制备工艺，其特征在于，所述步骤(1)中的盐溶液为硝酸盐溶液、氯化物溶液或硫酸盐溶液。
5.根据权利要求1所述的铈基抛光粉的制备工艺，其特征在于，所述碳酸氢镁和/或碳酸氢钙水溶液浓度以氧化镁或氧化钙计为1～25g/L。
6.根据权利要求1所述的铈基抛光粉的制备工艺，其特征在于，所述步骤(1)中沉淀剂的用量为理论用量的100～150％。
7.根据权利要求1所述的铈基抛光粉的制备工艺，其特征在于，所述步骤(1)中向得到的浆液中加入表面活性剂作为添加剂，并混合均匀，该表面活性剂的加入量为抛光粉理论重量的0.01～10％。
8.根据权利要求1所述的铈基抛光粉的制备工艺，其特征在于，在所述步骤(1)的浆液或步骤(2)的前驱体粉体中加入含硅的化合物。
9.根据权利要求8所述的铈基抛光粉的制备工艺，其特征在于，所述含硅的化合物为氟硅酸或氟硅酸盐。
10.根据权利要求1所述的铈基抛光粉的制备工艺，其特征在于，在沉淀及焙烧过程中产生的CO2捕集回收用于制备碳酸氢镁和/或碳酸氢钙水溶液。
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