[发明专利]一种高精度纳米间距检测装置及检测方法有效

专利信息
申请号: 201210428399.4 申请日: 2012-10-31
公开(公告)号: CN102927923A 公开(公告)日: 2013-02-13
发明(设计)人: 鱼卫星;王二伟;王成;孙强 申请(专利权)人: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
主分类号: G01B11/14 分类号: G01B11/14
代理公司: 长春菁华专利商标代理事务所 22210 代理人: 南小平
地址: 130033 吉*** 国省代码: 吉林;22
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摘要:
搜索关键词: 一种 高精度 纳米 间距 检测 装置 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种高精度纳米间距检测装置及检测方法,属于纳米光刻技术领域。

背景技术

光学衍射极限一直制约着两个物体之间绝对间距的检测。但是直到目前,光学干涉方法仍旧是检测两物体绝对间距的常规方法,衍射极限问题仍旧制约着光学检测方法的应用。为了扩展光学干涉方法能够应用于纳米尺度的检测,许多科研工作者做出了大量的工作。基于现有的Krestchmann-Raether(KR)结构,提出了一种检测纳米间距的方法,如图1所示,TM模式的激光束入射到SPR传感器上,SPR和玻璃板之间有一微小距离d。在谐振角度下,反射光束经由SPR反射后,其反射光光强受SPR反射率的影响。而由菲涅耳公式可以知道SPR的反射率受到d的影响,因此通过检测出射光束的反射率变化可以得到纳米间距d值。理论模拟结果显示使用632.8nm的激光束来检测时,入射角度从45°变化到50°,纳米间距由300nm变化到100nm,能够检测到的最小间距大约为126nm,可见这种检测方法对于小于100nm以下的纳米间距就不能适用。然而在纳米光刻技术中,经常会要求两个平面的间距小于100nm以下,间距的测量精度直接关系到纳米光刻技术的精度。

发明内容

本发明为了解决现有技术对纳米间距测量精度低的问题,提供一种高精度纳米间距检测装置及方法。

本发明一种高精度纳米间距检测装置,该装置中激光器、扩束装置、第一分束器、第二分束器、透镜、透光镜和平面反射镜共轴放置,透光镜位于透镜的后焦面上,调整激光器发出的光线平行入射到透镜和平面反射镜上;激光器发出的光线依次经过扩束装置、第一分束器、第二分束器、透镜、透光镜和反射镜;光经过第一分光器时部分光被反射,第一检偏器接收第一分束器反射出来的光线,光线经过第一检偏器后被第一光电探测器接收,第一光电探测器将采集到的信息传给计算机;反射镜反射回来的光线入射到第二分束器,SPR传感器接收第二分束器反射出来的光线,光线经过SPR传感器后入射到第二检偏器上,光线经过第二检偏器后被第二光电接收器接收,第二光电接收器将采集到的信息传给计算机。

本发明所述一种高精度纳米间距检测装置的检测方法,包括以下步骤:

步骤一:调整检测装置,使光束平行入射到透镜上;

步骤二:通过PNPS驱动、调整平面反射镜的位置,使其位于透镜后焦面附近; 

步骤三:调整第二检偏器使其透过方向平行于X轴,然后调整SPR传感器,直至SPR传感器反射出的P分量光束光强达到最小;

步骤四:调整第二检偏器使其透过方向与X轴成10°角,然后由PNPS驱动平面反射镜,通过计算机监测测试光路和参考光路的位相差值Δφ=φtere,直至其为一定值,此时透光镜与反射镜重合,两者都位于透镜后焦面上;

步骤五:由PNPS驱动反射镜产生微小位移,同时计算机实时记录位相差Δφ=φtere的值;

步骤六:由计算机分析处理实验数据得出反射镜的位移量。

本发明的有益效果是:一种高精度纳米间距检测装置及检测方法,由物理光学原理分析了微小位移与角度偏移之间的关系,然后结合SPR角度传感器关于角度偏移和位相改变的关系,建立起微小位移(纳米间距)和位相改变之间的关系,从而通过监测位相改变可以实现纳米间距的实时测量,通过理论模拟,得出纳米间距检测的灵敏度可以达到0.3°/nm;本发明检测装置搭建出测试光路和参考光路,通过计算机实时监测两光路信息,进而分析计算得出所要获得的反射镜位移量,本发明结构简单、易于操作,本发明的检测方法实现对纳米间距的实时监测,且测量精度高。 

附图说明

图1现有技术中检测纳米间距的原理图。

图2是本发明一种高精度纳米间距检测装置结构示意图。

图3是角度偏移与反射镜位置的关系示意图。

图4是角度偏移随物镜位置变化关系示意图。

图5是SPR传感器的四层结构图。

图6是位相变化量随入射角度改变的函数关系图。

图7是在全反射角附近位相随角度变化的函数关系图。

图8是位相变化量与角度偏移量的函数关系图。

图9是位移量与位相变化量的关系图。

图10是位相变化量随采样位置变化关系图。

具体实施方式

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