[发明专利]偏振光膜、圆偏振光板及它们的制造方法有效

专利信息
申请号: 201210422001.6 申请日: 2012-10-10
公开(公告)号: CN103048721B 公开(公告)日: 2017-07-18
发明(设计)人: 幡中伸行;大川春树 申请(专利权)人: 住友化学株式会社
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;G02F1/1335;C09K19/60;H01L51/52
代理公司: 上海市华诚律师事务所31210 代理人: 徐申民,汤国华
地址: 日本国东京都*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 偏振光 偏振 光板 它们 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种圆偏振光板,依次具有偏振光膜、λ/2层和λ/4层,并满足以下的要件(B1)、(B2)、(B3)及(B4):

(B1)所述偏振光膜的吸收轴与所述λ/2层的慢轴所成的角度为15°;

(B2)所述λ/2层的慢轴与所述λ/4层的慢轴所成的角度为60°;

(B3)所述λ/2层在波长550nm的光下测定的、所述λ/2层的正面延迟值在200~300nm的范围;

(B4)所述λ/4层在波长550nm的光下测定的、所述λ/4层的正面延迟值在100~150nm的范围;

所述偏振光膜由含有在400~800nm的波长范围有吸收的、下述通式(1)所示的多偶氮系色素的至少1种、和

聚合性近晶状液晶化合物的组合物形成;

所述偏振光膜在X射线衍射测定中获得布拉格峰;

式(1)中,

n为1或2,

Ar1及Ar3各自独立地表示选自下示基团的基团;

Ar2表示选自下示基团的基团;

A1及A2各自独立地表示选自下示基团的基团;

m为0~10的整数,当同一基团中存在2个m时,这2个m相互之间相同或不同。

2.一种圆偏振光板,具有偏振光膜和λ/4层,并满足以下的要件(A1)及(A2):

(A1)所述偏振光膜的吸收轴与所述λ/4层的慢轴所成的角度为45°;

(A2)在波长550nm的光下测定的所述λ/4层的正面延迟值在100~150nm的范围;

所述偏振光膜由含有在400~800nm的波长范围有吸收的、下述通式(1)所示的多偶氮系色素的至少1种、和

聚合性近晶状液晶化合物的组合物形成;

所述偏振光膜在X射线衍射测定中获得布拉格峰;

式(1)中,

n为1或2,

Ar1、Ar2及Ar3所表示的基团为选自以下3种组合中的一种:

A1表示选自下示基团的基团;

m为0~10的整数,当同一基团中存在2个m时,这2个m相互之间相同或不同。

3.根据权利要求1或2所述的圆偏振光板,其中,所述偏振光膜的厚度为1μm以上、5μm以下。

4.一种有机EL显示装置,具备权利要求1或2所述的圆偏振光板和有机EL元件。

5.一种偏振光膜,由含有在400~800nm的波长范围有吸收的、下述通式(1)所示的多偶氮系色素的至少1种、和

聚合性近晶状液晶化合物的组合物形成;

所述偏振光膜在X射线衍射测定中获得布拉格峰;

式(1)中,

n为1或2,

Ar1、Ar2及Ar3所表示的基团为选自以下三种组合中的一种:

A1表示选自下示基团的基团;

m为0~10的整数,当同一基团中存在2个m时,这2个m相互之间相同或不同。

6.一种起偏器的制造方法,该起偏器依次具备权利要求5所述的偏振光膜、取向膜及透明基材,其制造方法具有以下工序:

准备好在所述透明基材上具备所述取向膜的层积体的工序,

在所述层积体的所述取向膜上,形成含有聚合性近晶状液晶化合物、在400~800nm的波长范围有吸收的上述通式(1)所示的多偶氮系色素、聚合引发剂及溶剂的膜的工序,

从上一工序形成的膜中除去所述溶剂的工序,

使除去了所述溶剂的膜中含有的所述聚合性近晶状液晶化合物成为近晶状液晶状态的工序,

通过所述聚合性近晶状液晶化合物在保持所述近晶状液晶状态的形态下,使所述聚合性近晶状液晶化合物聚合,于所述取向膜上形成偏振光膜的工序。

7.一种液晶显示装置,具备权利要求5所述的偏振光膜。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于住友化学株式会社,未经住友化学株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210422001.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top