[发明专利]光刻设备和器件制造方法

权利要求书

1.一种光刻设备，包括：

衬底台，构造用以保持衬底；

隔间，配置成接纳所述衬底台；

热调节单元，布置成

接纳将要被曝光的衬底，和

热调节所述衬底；以及

转移系统，配置成将热调节后的衬底转移至所述衬底台，其中，在将热调节后的衬底从所述热调节单元转移至所述衬底台期间，所述衬底台和热调节单元布置在所述光刻设备的隔间内部。

2.如权利要求1所述的光刻设备，其中，所述热调节单元安装在所述隔间内部。

3.如权利要求1或2所述的光刻设备，其中，所述热调节单元和所述衬底台配置成在转移期间彼此相邻地定位。

4.如前述权利要求1-3中任一项所述的光刻设备，其中，所述转移系统包括保持器，所述保持器安装至所述热调节单元并配置成保持所述衬底。

5.如权利要求4所述的光刻设备，其中，所述保持器布置成围绕垂直轴线旋转所述衬底以用于衬底的粗对准。

6.如权利要求4或5所述的光刻设备，其中，所述保持器布置成将所述衬底保持在所述热调节单元的冷却板下面。

7.如权利要求6所述的光刻设备，其中，所述保持器布置成将衬底保持在冷却板的附近以允许所述衬底和冷却板之间的热交换。

8.如权利要求6或7所述的光刻设备，其中，所述保持器布置成当所述衬底台布置在所述热调节单元下面并且所述衬底台的支撑结构支撑所述衬底时释放所述衬底。

9.如权利要求1-5中任一项所述的光刻设备，其中，所述转移系统包括夹具，所述夹具配置成当热调节单元邻近所述衬底台时从所述热调节单元将热调节后的衬底移位至所述衬底台。

10.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中，所述热调节单元布置在所述隔间的装载口的附近。

11.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中，所述热调节单元包括对准单元，所述对准单元配置成执行所述衬底的粗对准。

12.一种器件制造方法，包括步骤：

提供包括热调节单元的光刻设备；

由所述热调节单元接纳将要被曝光的衬底；

热调节所述衬底；

将热调节后的衬底转移至设置在所述光刻设备的隔间内的衬底台，所述衬底台和所述热调节单元在所述转移期间布置在所述设备的隔间内部；和

将图案化的辐射束投影到所述衬底上。

13.如权利要求12所述的器件制造方法，其中，热调节所述衬底包括把将要曝光的衬底保持在所述热调节单元的冷却板附近以允许所述衬底和所述冷却板之间的热交换。

14.如权利要求12或13所述的器件制造方法，其中，所述转移包括将所述热调节单元定位在所述衬底台附近。

15.如权利要求12-14中任一项所述的器件制造方法，包括通过安装至所述热调节单元的对准单元执行所述衬底的粗对准。