[发明专利]输送装置及具有该输送装置的处理装置

说明书

技术领域

本发明涉及输送装置及具有该输送装置的处理装置。

背景技术

作为在真空容器内输送基板的基板输送装置，已知具有齿条和小齿轮机构的基板输送装置。齿条和小齿轮机构是将小齿轮的旋转动作变换成齿条的直线动作的机构，组合小齿轮和齿条而构成。

例如，在直线型溅射装置（インラインスパッタ）等真空处理装置中，保持基板的基板托盘，由带齿条的托架穿过真空室进行输送。在这里，通过了真空室的托架需要被转移至下一真空室。在基板托盘上固定齿条，在各真空室中设有小齿轮，通过对与齿条啮合了的小齿轮进行旋转驱动，托架被输送。通过了真空室的托架，被转移至下一真空室的小齿轮。

图5表示以往的输送装置的一例，是从真空装置的输送方向的侧方观看的输送装置的示意图。在图5中，为了简化，仅记载了托架102、被固定在托架102上的齿条107、以及小齿轮105。输送装置是保持被输送物，由齿条和小齿轮机构输送托架102的装置。在真空室的底面中央部，铺设有规定托架102的输送方向的输送轨道。在托架102的底面设有2列齿条107，在输送轨道侧在多个部位设有与托架102的齿条107的各个啮合的小齿轮105。

具有齿条107和小齿轮105的以往的输送装置存在以下的课题。

即，在真空处理装置的真空室之间，当从现工序的真空室的小齿轮105向下一工序的真空室的小齿轮105转移齿条107而啮合时，存在齿条107与小齿轮105的齿顶彼此冲撞的危险。

图6为表示以往的齿条107与小齿轮105的啮合关系的示意图。另外，各个的齿顶由符号42、41表示，移动方向分别由符号38、39表示。若齿顶41、42彼此发生冲撞，则有时作用负荷，成为驱动机构的停止的原因。另外，若齿条107的齿顶42来到小齿轮105的齿顶41上，则存在因返回到正常的啮合时的冲撞、冲击，导致由基板的破损、产生灰尘所引起的产品不合格的问题。

因此，为了解决这样的问题，提出设有单向离合机构的技术、使小齿轮在与小齿轮轴垂直的方向、轴向退让的技术。此技术的目的在于，即使存在齿顶彼此冲撞，也自动地立刻使其恢复为正常的啮合（例如参照专利文献1）。

以往的设置单向离合器的技术及使小齿轮退让的技术是在最初不修正齿条与小齿轮的相位关系，以后要使其恢复为正常的啮合的想法。因此，为了避免齿条与小齿轮的冲撞，需要采取别的对策。

另一方面，提出一种输送装置（例如参照专利文献2），该输送装置具有在长度方向设置有多个，至少1个与齿条啮合地配置的步进马达驱动式的小齿轮和至少每2个对小齿轮进行同步驱动的同步驱动机构。另外，公开了改变一部分的齿条的齿顶形状，避免与小齿轮的冲撞的技术（例如参照专利文献3）。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平11-247957号公报

专利文献2：日本特开平9-291360号公报

专利文献3：日本特开2011-137497号公报

发明内容

发明所要解决的课题

按照专利文献2的技术，在齿条与下一工序的小齿轮啮合之前获得同步，所以，能够有效地避免小齿轮的齿撞上齿条的齿。然而，因为部件数量变多，所以，存在难以降低成本和缩短维修时间的问题。另外，按照专利文献3的技术，也能够有效地避免小齿轮的齿撞上齿条的齿。然而，存在对既能维持高的可靠性，又能够进一步降低成本的技术的需求。

本发明的目的在于提供一种能够由简单的结构使齿条与小齿轮圆滑地啮合的输送装置及具有该输送装置的真空处理装置。

为了解决课题的手段

本发明的输送装置，其具有：齿条、第一小齿轮、以及第二小齿轮；该齿条设置在能够进退移动的托架，在任何部分齿顶的形状都相同；该第一小齿轮与齿条啮合；该第二小齿轮在与第一小齿轮相比更靠托架的前进方向侧的位置与齿条啮合，齿条，形成为当第一小齿轮在齿条的中央部分啮合，第二小齿轮在齿条的端部分啮合时，齿条与第一小齿轮的齿隙比齿条与第二小齿轮的齿隙小。

发明的效果

按照本发明，能够由简单的机构使齿条与小齿轮圆滑地啮合，所以，能够提供一种具有高可靠性的输送装置及具有该输送装置的真空处理装置。

附图说明

图1为示意地表示本发明实施方式的配备多个真空处理室的真空处理装置的一例的俯视图。

图2A、2B为从输送方向观看本发明的实施方式的输送装置的示意图2A、从输送方向的侧方观看本发明的实施方式的输送装置的示意图2B。