[发明专利]光刻设备和衬底处理方法

权利要求书

1.一种光刻设备，布置用以将图案从图案形成装置转移至衬底上，所述光刻设备包括构造用以保持衬底的衬底台和布置用以将衬底定位在衬底台上的夹具，所述夹具包括真空夹紧装置，所述真空夹紧装置布置成在衬底的顶侧夹紧衬底。

2.如权利要求1所述的光刻设备，其中真空夹紧装置布置成夹紧衬底顶表面的圆周外部区域的至少一部分。

3.如权利要求1或2所述的光刻设备，其中真空夹紧装置包括两个同心的密封件和形成在所述密封件之间的真空室。

4.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中真空夹紧装置包括布置用以夹紧衬底顶表面的圆周外部区域的至少一部分的真空室和与所述真空室同心的另一真空室，所述另一真空室用以夹紧衬底表面的中心区域的至少一部分。

5.如权利要求4所述的光刻设备，其中所述另一真空室包括多个真空入口管道，所述光刻设备包括用以测量衬底的平坦度的传感器和用以根据所测量的平坦度控制施加真空至每个真空入口管道的真空施加控制器。

6.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中真空夹紧装置包括刚性夹具框架和布置成接触衬底表面的至少一个顺应性夹具部分，所述顺应性夹具部分相对于刚性夹具框架是能够移动的。

7.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中真空夹紧装置包括两个同心的软密封件、用以在软密封件之间形成的真空室内供应真空的真空供给口以及在真空供给口的两侧上的真空室内的环形突出部，所述突出部被形成用于当通过夹具夹紧衬底时基本上切断至真空室的剩余部分的真空供给。

8.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中真空夹紧装置包括形成在真空室内的接触结构，所述接触结构布置成当通过夹具夹持衬底时建立与衬底的接触。

9.如权利要求8所述的光刻设备，其中真空夹紧装置包括真空供给口和用以形成外部密封的环形软密封件，所述接触结构是环形的且与软环形软密封件同心，所述真空供给口被设置到环形软密封件和接触结构之间的真空室中。

10.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中真空夹紧装置包括夹具框架和从夹具框架延伸的环形密封件，以形成真空室。

11.如权利要求10所述的光刻设备，其中环形密封件包括环形剃刀刀口。

12.如权利要求10所述的光刻设备，其中环形密封件包括环形刀和用以将环形刀连接至夹具框架的弹簧结构。

13.一种衬底处理方法，包括步骤：

使用夹具将衬底定位在光刻设备的衬底台上，所述定位步骤包括使用所述夹具的真空夹紧装置在衬底的顶侧夹紧衬底。

14.如权利要求13所述的衬底处理方法，包括夹紧衬底顶表面的圆周外部区域的至少一部分。

15.一种用于处理衬底的衬底处理装置，所述衬底处理装置包括夹具，所述夹具配置成夹持衬底并将衬底定位在衬底台上，其中所述夹具包括布置成在衬底顶侧处夹紧衬底的真空夹紧装置。