[发明专利]用于核酸扩增反应的微芯片及其制造方法无效
| 申请号： | 201210397930.6 | 申请日： | 2012-10-18 |
| 公开（公告）号： | CN103074203A | 公开（公告）日： | 2013-05-01 |
| 发明（设计）人： | 小岛健介;佐藤正树;松本真宽 | 申请（专利权）人： | 索尼公司 |
| 主分类号： | C12M1/00 | 分类号： | C12M1/00 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 余刚;吴孟秋 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 核酸 扩增 反应 芯片 及其 制造 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于核酸扩增反应的微芯片，包括：
井，被配置作为核酸扩增反应的反应场所，并且具有中心部分和边缘部分，以及
以少数位于井的中心部分而多数位于井的边缘部分的离心形状固定的物质，其中该物质是用于核酸扩增反应的至少一部分物质。
2.根据权利要求1所述的用于核酸扩增反应的微芯片，其中，所述井具有亲水性表面。
3.根据权利要求2所述的用于核酸扩增反应的微芯片，其中，所述物质具有高度从井的边缘部分到中心部分降低的碗形形状。
4.根据权利要求3所述的用于核酸扩增反应的微芯片，其中，所述物质被环状地放置在除井的中心部分以外的区域。
5.根据权利要求1所述的用于核酸扩增反应的微芯片，其中，所述物质为多种成分在所述井按顺序层叠的层叠结构。
6.一种用于核酸扩增反应的微芯片的制造方法，包括：
对基板层的表面施加亲水性处理，在所述基板层上形成有被配置作为核酸扩增反应的反应场所的井；
将用于核酸扩增反应的至少一部分物质滴入所述井中；并且干燥所述物质并将其固定在所述井内。
7.根据权利要求6所述的用于核酸扩增反应的微芯片的制造方法，其中，
所述亲水性处理包括将所述表面暴露于等离子体。
8.根据权利要求7所述的用于核酸扩增反应的微芯片的制造方法，其中，
所述固定包括冷冻干燥滴入所述井中的所述物质。
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