[发明专利]一种基于多子孔径成像的大气等晕角测量方法

权利要求书

1.一种基于多子孔径成像的大气等晕角测量方法，其特征在于实现步骤如下：

(1)根据多子孔径成像探测器子孔径布局确定测量孔径形状及尺寸，测量孔径采用单个子孔径或多个子孔径组合；

(2)若为直径D的圆形测量孔径，常数PC=0.9676，并由圆形孔径在不同尺寸下的等晕角修正因子计算公式，求出等晕角孔径尺寸修正因子γ；

γ=-4D³+14.6D²+7.3D+0.1            (1)

(3)若为边长A的方形测量孔径，常数PC=0.4，并由方形孔径在不同尺寸下的等晕角修正因子计算公式，求出等晕角孔径尺寸修正因子γ；

γ=-0.12A³+11A²+11.2A-0.1          (2)

(4)统计测量孔径对应CCD子区域内的像素灰度值之和的起伏方差：

σs2=1frameΣj=1frame(Sj-<S>)2---(3)]]>

其中frame为统计时间内的CCD总帧数，S_j为第j帧图像的对应CCD子区域内像素的光强灰度值之和，<S>为统计时间内的对应CCD子区域内像素的平均光强值；

(5)计算等晕角，带入公式(1)或公式(2)所确定的PC和γ值：

θ0=PC[log(1+σs2/<S>2)]-3/51γ---(4)]]>

(6)对探测器上多个测量孔径重复步骤(1)-(5)，在一个统计时间内得到多个θ0进行估计平均，得到所述一个统计时间内的大气等晕角测量值。

2.根据权利要求1所述的一种基于多子孔径成像的大气等晕角测量方法，其特征在于：对子孔径在全孔径上的排布方式没有限制，子孔径可以规则排布，也可以任意排布，也可以方形和圆形同时排布。

3.根据权利要求1所述的一种基于多子孔径成像的大气等晕角测量方法，其特征在于：对探测器件没有限制，探测器是CCD、CMOS面成像器件，对多子孔径同时测量，也可以采用PMT、PSD、PD单元探测器件对多个子孔径分别测量。