[发明专利]带有纳米二氧化硅层的在水环境下具有透明性的材料及其制备方法有效
申请号: | 201210383155.9 | 申请日: | 2012-10-10 |
公开(公告)号: | CN103722802A | 公开(公告)日: | 2014-04-16 |
发明(设计)人: | 王树涛;杨高;江雷 | 申请(专利权)人: | 中国科学院化学研究所 |
主分类号: | B32B9/04 | 分类号: | B32B9/04;C09D1/00 |
代理公司: | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人: | 李柏 |
地址: | 100190 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 带有 纳米 二氧化硅 水环境 具有 透明性 材料 及其 制备 方法 | ||
1.一种带有纳米二氧化硅层的在水环境下具有透明性的材料,其特征是:所述的材料是在透明基片的表面沉积有由纳米二氧化硅颗粒组成的二氧化硅层。
2.根据权利要求1所述的带有纳米二氧化硅层的在水环境下具有透明性的材料,其特征是:所述的由纳米二氧化硅颗粒组成的二氧化硅层的厚度为100纳米~50微米;所述的纳米二氧化硅颗粒中的纳米二氧化硅颗粒的粒径为20~900纳米。
3.根据权利要求1所述的带有纳米二氧化硅层的在水环境下具有透明性的材料,其特征是:透射光谱测试的结果表明,所述的带有纳米二氧化硅层的在水环境下具有透明性的材料在水环境下的可见光的透射率为30~99%。
4.根据权利要求1所述的带有纳米二氧化硅层的在水环境下具有透明性的材料,其特征是:所述的透明基片选自玻璃片、石英片、云母片、聚二甲基硅氧烷基片、聚甲基丙烯酸甲酯基片和聚苯乙烯基片等透明基片中的一种。
5.一种根据权利要求1~4任意一项所述的带有纳米二氧化硅层的在水环境下具有透明性的材料的制备方法,其特征是,所述的制备方法包括以下步骤:
(1)将透明基片清洗干净,氮气吹干,然后将透明基片置于燃烧的火焰上,在透明基片的表面沉积一层由纳米烟灰颗粒组成的烟灰层;
(2)将步骤(1)得到的沉积有由纳米烟灰颗粒组成的烟灰层的透明基片置于含硅化合物所挥发的气体环境中,通过化学气相沉积,在由纳米烟灰颗粒组成的烟灰层的纳米烟灰颗粒的外表面沉积一层二氧化硅外壳层;
(3)将步骤(2)得到的透明基片进行等离子体处理或进行煅烧处理,除去二氧化硅外壳层内部的所述的纳米烟灰颗粒,在透明基片的表面沉积得到由纳米二氧化硅颗粒组成的二氧化硅层。
6.根据权利要求5所述的制备方法,其特征是:所述的由纳米二氧化硅颗粒组成的二氧化硅层的厚度为100纳米~50微米;所述的纳米二氧化硅颗粒中的纳米二氧化硅颗粒的粒径为20~900纳米。
7.根据权利要求5所述的制备方法,其特征是:所述的火焰是由动物油脂、植物油脂、蜡烛、酒精或煤油燃烧所产生的火焰。
8.根据权利要求5所述的制备方法,其特征是:所述的含硅化合物选自四氢化硅、四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷和四氯化硅所组成的组中的至少一种。
9.根据权利要求5所述的制备方法,其特征是:所述的等离子体处理的功率参数为20~2000w;
所述的等离子体处理所用的气源为氩气、氧气、氮气和空气所组成的组中的至少一种。
10.根据权利要求5所述的制备方法,其特征是:所述的煅烧处理的温度为400~1300℃。
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